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我公司生产的抛光研磨用氧化铝粉采用精选工业级氧化铝粉为原材料，通过90米的隧道窑凝烧，产品受热均匀，a 结晶转化率高。 通过球磨，气流二次分级，粒度分布范围窄，研磨效率高，抛光效果好，研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料，由于颗粒形貌 好，被抛光物品表面光洁度高在*后一道精抛光上优于白刚玉的研磨抛光效果。广泛应用与铝材、钢材、不锈钢、石材、玻璃等 的研磨抛光。自投放市场以来，得到用户的一致好评，尤其在不锈钢，铜材等金属材料及玻璃行业的研磨抛光中，充分显示了该 产品的优越性能。
| 规格 | Al203 | Na20 | D10(um) | D50(um) | D90(um) | 原晶颗粒 | 比表面积(m2/g) |
| 12500# | ≥99.6 | ≤0.02 | >0.3 | 0.7-1 | <6 | 0.3 | 2-6 |
| 10000# | ≥99.6 | ≤0.02 | >0.5 | 1-1.8 | <10 | 0.3 | 4-7 |
| 8000# | ≥99.6 | ≤0.02 | >0.8 | 2.0-3.0 | <17 | 0.5 | <20 |
| 6000# | ≥99.6 | ≤0.02 | >0.8 | 3.0-3.5 | <25 | 0.8 | <20 |
| 5000# | ≥99.6 | ≤0.02 | >0.8 | 4.0-4.5 | <30 | 0.8 | <20 |
| 4000# | ≥99.6 | ≤0.02 | >0.8 | 5.0-6.0 | <35 | 1.0-1.2 | <20 |
氧化铝粉用途
金属抛光(可在壶、盘及餐具);石材抛光(大理石、花岗岩)和玻璃抛光(光学镜头，普通玻璃);单晶硅片/半导体/IC卡特种玻璃的精密抛光电 视机和计算机显示器/显像管等，其中XL-01、XL-02系列产品，主要用于不锈钢的抛光，可实现镜面抛光，在粒径:1-2um之间的完全可以代 替德国马丁的P12-1产品。可以使抛光蜡和研磨膏产品性能提高到一个新的水平。
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