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IKN铂碳催化剂研磨浆料生产高剪切胶体磨
IKN铂碳催化剂研磨浆料生产高剪切胶体磨

参考价格

10-20万元

型号

CMSD2000/ 04

品牌

IKN

产地

德国

样本

暂无
上海依肯机械设备有限公司

金牌会员

|

第14年

|

生产商

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核心参数
  • 磨抛盘直径:

    55mm
  • 主轴转速:

    14000
  • 切割片尺寸:

    55mm
  • 空气耗量(L/min):

    2
  • 空气压力(kpa):

    10
  • 粉碎程度:

    超细粉碎
  • 单位能耗:

    --
  • 产量:

    100
  • 装机功率(kw):

    4
  • 成品细度:

    钠米级
  • 入料粒度(mm):

    10mm以下
  • 工作原理:

    自磨
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 IKN铂碳催化剂研磨浆料生产高速研磨机/高速胶体磨改进式/催化剂研磨/炭黑研磨/贵金属材料研磨 高剪切胶体磨


催化剂浆料制备关键点:

稳定均一:①减少尾端颗粒的数量②粒径分布窄

分散性好:减少铂炭催化剂大粒子的团聚

 

在浆料生产过程中,常见的问题包括:

1.提高催化剂活性

减小催化剂颗粒尺寸可以有效提升其活性,但未分散的颗粒容易形成大团聚物,导致颗粒尺寸增大、比表面积减小,从而降低催化活性。适当的分散有助于提高催化剂活性,进而影响膜电极组件(MEA)的性能.

2.提高催化剂的稳定性和均一性

燃料电池中使用的铂炭催化剂要求铂纳米颗粒的粒径在3-5纳米之间,粒径分布窄,且在炭上均匀分散,不含有害杂质(如氯)。由于3-5纳米铂纳米颗粒的表面能较大,容易发生团聚,因此制备出满足这些条件的铂碳催化剂工艺难度较高,这也是目前主要依赖进口的原因之一.

3.减少催化剂用量和提高利用率

催化剂层(CL)一直面临着阴极氧还原反应(ORR)反应动力学缓慢以及质量传输过电位过高的问题,其中一个主要原因是CL上催化剂团聚体中离聚物对铂(Pt)的覆盖。离聚物覆盖在Pt表面会减少催化活性位点,导致ORR活性损失,而Pt表面高密度过厚的离聚物层则会导致质量传输过电位增加。这些问题都与CL上团聚体的结构密切相关。均一分散的催化剂浆料可以与涂覆工艺相结合,尽量使涂覆层更薄,从而提高催化剂的利用率.

4.连续性生产(稳定性)

分散的铂炭催化剂会随着时间推移发生再聚集,因此分散好的浆料需要尽快进行下一工序以形成催化基层。连续分散过程可以与催化剂浆料的涂布过程同步进行,允许在分散后立即使用催化剂浆料进行连续生产催化剂层。虽然在实际生产中,连续生产可以解决部分问题,但体系稳定的浆料可以显著降低工艺难度。


有很多应用中,200-600目的颗粒度是不够的,需要达到1-2微米甚至更小,常用的研磨设备以及研磨方式已经难以满足此技术要求。上海依肯在传统胶体磨与均质机的基础上,研发出了二者相结合的研磨分散机,其磨头结构采用错齿形,自上而下齿槽深度由深到浅,定转子部分间隙理论上能够实现无限接近,再配合15000RPM的超高转速,当颗粒进入磨头腔体之后,瞬间即可被超微粉碎。从磨头腔体出来后进入分散盘腔内,根据物料的特性及处理量的要求,上海依肯提供2G,4M,6F,8SF不同规格的斜齿,对磨细的颗粒进行二次剪切和分散,防止颗粒抱团。


IKN模块化设计的主要特点如下:

-直立式腔体结构,物料可以全部进入分散腔;

-无死角;

-良好的表面处理;

-符合CIP/SIP的清洗要求;

-低噪音;

-所有接触物料的材质均为SS316;

-小试、中试到量产,平稳过渡;

-仅需简单的更换功能模块,即可满足分散-悬浮-均质-乳化的不同要求;

-卫生设计,适合食品及制药行业;

-可提供特殊材质满足磨损性及腐蚀性产品处理要求。



研磨分散机参数选型表 

CMSD选型.png

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%

技术及价格请来电:本公司有样机可供客户购前实验,欢迎广大客户来我司参观指导!


 IKN铂碳催化剂研磨浆料生产高速研磨机/高速胶体磨改进式/催化剂研磨/炭黑研磨/贵金属材料研磨 高剪切胶体磨


创新点

结合锥形刀头与平面刀头 提高研磨与分散效果

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产品质量

10分

售后服务

10分

易用性

10分

性价比

10分
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