参考价格
10-20万元型号
CMSD2000/ 4品牌
IKN产地
德国样本
暂无磨抛盘直径：
55mm主轴转速：
14000切割片尺寸：
55mm空气耗量（L/min）：
--空气压力（kpa）：
--粉碎程度：
超细粉碎单位能耗：
4kwh产量：
100装机功率（kw）：
4成品细度：
纳米级入料粒度（mm）：
100mm以下工作原理：
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二氧化硅（SiO₂）是一种无机化合物，化学式为SiO₂，是地壳中*常见的矿物成分之一，也是石英、石英砂、水晶等矿物的主要成分。二氧化硅在自然界中广泛存在，也是许多工业产品和材料的重要原料。
高熔点、高硬度、难溶于水和耐酸碱性。
在电子工业中，二氧化硅用于制造集成电路、微电子器件和光电器件；在医疗器械领域，它被用作人工骨、人工关节和牙齿修复材料；在建筑材料领域，二氧化硅因其防火性能和保温隔热效果而被用于隔热材料、保温材料和防水材料；在精细化工领域，二氧化硅应用于化妆品、涂料、橡胶、塑料等；在食品添加剂领域，二氧化硅用于防止食品氧化和吸湿；在玻璃制造领域，它是制造平板玻璃、玻璃瓶、玻璃器皿及高级光学仪器玻璃的必需原材料；此外，二氧化硅也用作锂离子电池的正极材料。
制备方法主要有物理法通过高纯度石英砂经过研碎、洗涤、筛分等工艺得到细粉状的二氧化硅。化学法主要通过化学反应来制备，常用的方法包括氯化法和溶胶-凝胶法，其中氯化法将硅石与氢氯酸反应生成氯硅烷，再通过氧化或水解反应制得二氧化硅；溶胶-凝胶法则通过将硅源溶解于溶剂中形成溶胶，然后通过凝胶化和热处理得到二氧化硅。浸出法通过酸性溶液浸出硅源，再经过沉淀、烘干等步骤制取二氧化硅。
纳米颗粒二氧化硅催化剂是指颗粒尺寸小于100 nm的材料。该类催化剂具有高比表面积、晶体质量好等优点，可用于催化反应、光催化等领域。常见的制备方法包括溶胶-凝胶法、气相沉积法等。
IKN模块化设计的主要特点如下：
-直立式腔体结构，物料可以全部进入分散腔；
-无死角；
-良好的表面处理；
-符合CIP/SIP的清洗要求；
-低噪音；
-所有接触物料的材质均为SS316；
-小试、中试到量产，平稳过渡；
-仅需简单的更换功能模块，即可满足分散-悬浮-均质-乳化的不同要求；
-卫生设计，适合食品及制药行业；
-可提供特殊材质满足磨损性及腐蚀性产品处理要求。
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表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料；物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
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依肯承诺
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二、亲自上门提供正常的设备操作培训，为需方培训多名工程技术人员，全面掌握生产工艺，设备日常维护，故障及生产管理。
三、所提供设备均保修一年。在保修期内除需方因操作不当造成的原因外，所有因设备维修发生的维修费用均由我公司负责。
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纳米级分散研磨
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