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采用当下*有优势的高精密加工设备，配备专业工艺人员，保障使用中硅片表面不产生“彩片”
| 密度 | 1.82g/cm³ | 灰分 | 50ppm |
| 抗折强度 | 51Mpa | 抗压强度 | 115Mpa |
| 颗粒度 | 0.01mm | 电阻率 | 12μΩ.m |
| 肖氏硬度 | 65HSD | 热膨胀系数（室温-600℃） | 5.8x10-6/℃ |
| 弹性模量 | 12Gpa | 气孔率 | 12% |
| 进口提纯石墨参数 | |||
| 密度 | 1.82g/cm³ | 灰分 | 50ppm |
| 抗折强度 | 58Mpa | 电阻率 | 14μΩ.m |
应用场景：单晶硅片沉积镀膜
优点
1.采用当下*有优势的高精密加工设备，配备专业工艺人员，保障使用中硅片表面不产生“彩片”。
2.采用提纯等静压石墨材料制作，杂质含量低，强度高。
3.陶瓷组装件采用99.9陶瓷，防腐蚀性能强，不易爆裂。
4.执行严格的全工序品质控制，保证每个配件的精度。
5.能完全匹配主流设备厂商的沉积炉型。
| 国产提纯石墨参数 | |||
| 密度 | 1.82g/cm³ | 灰分 | 50ppm |
| 抗折强度 | 51Mpa | 抗压强度 | 115Mpa |
| 颗粒度 | 0.01mm | 电阻率 | 12μΩ.m |
| 肖氏硬度 | 65HSD | 热膨胀系数（室温-600℃） | 5.8x10-6/℃ |
| 弹性模量 | 12Gpa | 气孔率 | 12% |
| 进口提纯石墨参数 | |||
| 密度 | 1.82g/cm³ | 灰分 | 50ppm |
| 抗折强度 | 58Mpa | 电阻率 | 14μΩ.m |
| 颗粒度 | 0.01mm | 气孔率 | 8% |
| 肖氏硬度 | 65HSD | ||
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