参考价格
5-10万元型号
CM2000/4品牌
IKN产地
德国样本
暂无粉碎程度:
超细粉碎单位能耗:
2.2KW产量:
0-1000L/H装机功率(kw):
2.2KW成品细度:
0-10微米入料粒度(mm):
0-100工作原理:
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纳米实验室胶体磨,试验室胶体磨,小型胶体磨,德国实验室胶体磨,高转速实验室胶体磨,此款实验室胶体磨比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,研磨效果非常好,**转速可以达到21000RPM。
纳米实验室胶体磨的研磨效果
响研磨粉碎结果的因素有以下几点
2胶体磨磨头头的剪切速率(越大,效果越好)
3胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率(s-1)= v速率(m/s)
g定-转子间距(m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距。
IKN定-转子的间距范围为0.2~0.4mm
速率V=3.14XD(转子直径)X转速RPM/60
纳米实验室胶体磨 ,实验室中试型胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
纳米实验室中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,实验室中试型胶体磨用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
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CM2000/4纳米实验室中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 CM2000/4实验室中试型胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。 CM2000/4实验室中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
公司另外一项独特的创新,就是锥体磨CMO2000系列,它的设计使其功能在原有的CM2000的基础上又进了一步。由于这项创新,CMO2000能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。研磨间隙可以无级调节,从而可以得到精确的研磨参数。
研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和*后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理但它的分散效果和*后的粒径大小都比胶体磨CM的效果更加理想。
它们的主要区别
CM2000/4(LP系列)为实验室胶体磨的技术参数:功率1.5-2.2KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时(水),重量35KG,尺寸 (长宽高)(450250350)MM,LP使用轴封(PTFE 环),在正常的情况下,一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用,一般*多可以使用连续半个小时,这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块,可以实现多功能多用途。是中试生产的**选择。
CM2000/4(PP系列)为中试型胶体磨的技术参数:功率2.2-4 KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时(水),重量45KG, 尺寸 (长宽高)((450250350)MM,PP使用双机械密封,可24小时不停机连续生产,并通冷媒对密封部分进行冷却。通过变换模块,可以实现多功能多用途。机械密封和机械设计符合3A健康标准,是中试和小批量生产的**选择。
CM2000/4实验室中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
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