参考价格
20-30万元型号
CMSD2000品牌
IKN产地
德国样本
暂无粉碎程度:
超细粉碎单位能耗:
11产量:
1000装机功率(kw):
11成品细度:
1入料粒度(mm):
100工作原理:
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核糖核酸胶体磨,猪胰胶体磨,核酸胶体磨,核糖胶体磨,猪胰高速匀浆机,猪胰组织匀浆机,德国高速胶体磨是透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
核糖核酸胶体磨,猪胰胶体磨,核酸胶体磨,的工艺
糖核酸的制备方法,包括如下步骤:
1)提取原液的制备将动物胰腺小块绞碎后移入胶体磨,加入提取缓冲液进行研磨,得到提取原液;所述提取缓冲液为0.01~0.10mol/LTris-乙酸缓冲液,pH4~8;
2)核糖核酸的提取提取原液加入0.2~10倍体积饱和酚液体的上层水相,和0.2~10倍体积的饱和酚液体的下层酚相,加热到40~80℃,恒温30~180分钟;然后,在4~10℃下离心,收集上清液;所述饱和酚液体是将苯酚融化后,
加入等体积的步骤1)所述提取缓冲液,搅拌均匀后得到的;上清液加入0.5~2倍体积的氯仿-异戊醇溶液,摇匀5~30分钟,在4~10℃下离心,收集上清液;上清液加入0.2~2倍体积氯仿-异戊醇,摇匀后在4~10℃离心,收集含核糖核酸的上层上清液,所述氯仿-异戊醇溶液中氯仿与异戊醇的体积比为10~50∶1;上清液加入0.1~1体积助沉淀缓冲液,再加入2~6倍体积95%乙醇,摇匀,4℃放置过夜,在4~10℃下离心,收集得到核糖核酸沉淀;助沉淀缓冲液为1-5mol/L乙酸钠溶液,pH为3-6。
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影响研磨粉碎结果的因素有以下几点
2 胶体磨磨头头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
转子的线速率
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
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粉碎研磨分散的本质是通过能量的输入使不相溶的两相或多相达到互相包裹,近似稳定均一状态的做功过程。即形成乳液或悬浮液的条件是,在某一能量水平上, 各种微滴颗粒集聚的速度与分散的速度达到动态的平衡。
IKN胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果
为了达到巨大的能量输入,IKN采用提高定转子转速的方法。在电机固定三千转的前提下,我们采用立式的结构通过皮带加速达到15000转。这很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高转速下保持稳定——轴承的强度够不够?机械密封会不会因为产生大量的热而损毁泄露?主轴会不会偏振的很厉害,定转子是否会发生摩擦?这些是IKN的关注点,也应该是广大客户在选型时应该重视的几个方面。
核糖核酸胶体磨,猪胰胶体磨,核酸胶体磨,核糖胶体磨,猪胰高速匀浆机由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
**级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出*终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
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研磨分散机应用领域: 化学工业:油漆、颜料、染料、涂料、润滑油、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、胶粘剂、洗涤剂、塑料、玻璃钢、皮革、白炭黑,二氧化硅,钛白粉,炭黑,纤维素,石墨烯,碳纳米管,富勒烯,电池浆,压裂液料,纤维,芳纶,氯纶,晴纶等。 食品工业:芦荟、菠萝、芝麻、果茶、冰淇淋、月饼馅、奶油、果酱、果汁、大豆、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、杏仁露、核桃露、乳制品,麦乳精、香精、各种饮料 花生酱、豆瓣酱、香菇酱、辣酱、酱虾酱,食用菌丝,蛋白粉 ,豆粕酶解等
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设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMSD 2000/4 | 400 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD 2000/5 | 1500 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到**允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和*终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。
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在乳剂药品如软膏、乳霜等的整个生产过程中——必须按照严格的产品卫生或无菌级标准进行管控。各种原料必须在受控、安全和可重复的条件下以定量的方式进行均质、加热、冷却、灭菌与填充。生产系统必须包含在线清洗(
一种分散乳化一体机
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