IKN磺胺二甲嘧啶混悬液胶体磨-参数-价格-中国粉体网

核心参数

成品细度：
0-0.2
入料粒度（mm）：
0-100
工作原理：
辊压碾磨
粉碎程度：
超细粉碎
单位能耗：
0-10
产量：
700-8000
装机功率（kw）：
2.2

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产品关键词概述：磺胺二甲嘧啶混悬液胶体磨高速胶体磨高剪切胶体磨 IKN胶体磨胶体磨品牌胶体磨价格胶体磨供应商
磺胺二甲嘧啶混悬液胶体磨,磺胺二甲嘧啶混悬液研磨分散机,磺胺二甲嘧啶混悬液研磨设备本品为白色或类白色混悬液（静置后有微细颗粒沉淀，振摇则成均匀的混悬液），味酸甜。

磺胺二甲嘧啶混悬液混悬剂的质量要求是：药物本身化学性质应稳定，有效期内药物含量符合要求；混悬微粒细微均匀，微粒大小应符合该剂型的要求；微粒沉降缓慢，口服混悬剂沉降体积比应不低于0.90，沉降后不结块，轻摇后应能迅速分散；混悬剂的粘度应适宜，倾倒时不沾瓶壁；外用混悬剂应易于涂布，不易流散；不得有发霉、酸败、变色、异臭、异物、产生气体或其他变质现象；标签上应注明“用前摇匀”。

　　混悬剂一般为液体药剂，也包括一种干混悬剂。它是将难溶性药物与适宜辅料制成粉末状或颗粒状药剂，临用前加水振摇即可分散成混悬液。其主要是有利于解决混悬剂在保存过程中的稳定性问题，并可简化包装，便于贮藏和携带。

磺胺二甲嘧啶混悬液

混悬剂中药物微粒与分散介质之间存在着固液界面，微粒的分散度较大，使混悬微粒具有较高的表面自由能，故处于不稳定状态。尤其是疏水性药物的混悬剂，存在更大的稳定性问题。这里主要讨论混悬剂的物理稳定性问题，以及提高稳定性的措施。

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　　（一）混悬微粒的沉降

　　混悬剂中的微粒由于受重力作用，静置后会自然沉降，其沉降速度服从Stokes定律：

　　按Stokes定律要求，混悬剂中微粒浓度应在2%以下。但实际上常用的混悬剂浓度均在2%以上。此外，在沉降过程中微粒电荷的相互排斥作用，阻碍了微粒沉降，故实际沉降速度要比计算得出的速度小得多。由Stokes定律可见，混悬微粒沉降速度与微粒半径平方、微粒与分散介质密度差成正比，与分散介质的粘度成反比。混悬微粒沉降速度愈大，混悬剂的动力学稳定性就愈小。

　　为了使微粒沉降速度减小，增加混悬剂的稳定性，可采用以下措施：①尽可能减小微粒半径，采用适当方法将药物粉碎得愈细愈好。这是***的一种方法。

胶体磨广泛应用在国计民生的各个领域，由于需要适应各种不同工况条件的要求，所以胶体磨的品种繁多数量巨大。我国的胶体磨制造业十分的庞大，胶体磨厂家数以千计，遍布了全国，目前我国已经成为全球胶体磨产量和市场需求量**的国家之一。但我国的胶体磨行业大多是中小企业，良莠不齐，年产值超亿元的还不到10家，即便与国内其他机械行业相比，无论在装备上还是技术水平上也存在了很大的差距，真正具有独立研究开发高端产品能力的单位非常少，因而在大型核电、石化、油气长输管道线等重大工程项目中，配套的胶体磨主要还是依靠进口。

IKN高剪切胶体磨和国产胶体磨全面对比：

① 转速：

国内设备：目前是不通过变频器来调节，若通过变频调节，他们的轴承不能承受高速运转。一般在3000RPM（这是由于胶体磨的内部结构及精密的程度决定的。）

IKN：可以通过变频调速，转速可达7890/13789RPM ，通过皮带加速我们轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是他们的3-4倍，这样研磨的细度更小)

② 三级结构：

虽然都是三级结构

国内设备：沟槽是直线，同级的沟槽深度一样。

IKN：沟槽是曲线，上下深度不一，上深下浅。

③ 磨头的结构

国内设备：斜齿的每个磨头的沟槽深度一样，流道体积是一样大。

IKN：沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。

这样形成了本质的区别，我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨，而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

④   线速度（如磨头的相同直径）：

国内设备：大约在10-15m/s

IKN：可达到23-40m/s

⑤ 模块头：