粉碎程度：
细粉碎单位能耗：
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-工作原理：
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模块化设计，应用范围广 PML 2 适用于中低粘度的物料； 可选择立式或卧式操作位置。 全容积珠磨机、环状研磨腔和纳米级珠磨机 现有的加工设备包括：Centex™ 全容积盘片式珠磨机，SuperFlow™ 4 作为高性能环形珠磨机进行再循环研磨，MicroMedia™ L 作为纳米级珠磨机，适于 20 到 400 μm 的研磨介质； 研磨腔容积有小至 50 Ml 的纳米珠磨机 MicroMedia™ L，也有大到 0.85 l 的全容积珠磨机 Centex™ S2。 试验参数的再现性 数据记录系统 WinTrend 可运行 PREMIUM 版本，实现连续的过程监测，确保生产过程可再现。 研磨腔可选配各种材质 现有的研磨腔材质包括多种不同的陶瓷、合成材料和硬质合金。
——模块化设计，应用范围广
—— 模块可用于全容积珠磨机、环状研磨腔和纳米级珠磨机
—— 可再现试验参数
—— 可选配各种材质研磨腔
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