PPCVD法生产高性能纳米陶瓷粉体材料扩产180万吨/年


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本厂是国内首家采用等离子体化学气相合成法工业化生产纳米级及亚微米级陶瓷材料的新型高新技术企业。本厂建于1997年,注册资本330万元,总资产670万元(不含地产)。本厂与清华大学技术合作,通过几年来的实践和不断的技术创新,已成功生产出纳米级及亚微米级的高α相氮化硅、碳化硅、碳氮化钛,并具备了年产30万吨的工业化生产规模。本项目具有独立的知识产权,已申请了四项国家发明专利,产品于2001年8月通过省科技厅组织的科技成果鉴定。2001年通过高新技术企业认定及高新技术产品认定,并被科技部确定为2002年度国家重点新产品。本项目产品平均粒度小、粒度分布范围窄、比表面积大、反应活性高;它不仅可以提高制品的烧结密度和质量,还可以降低烧结温度,具有耐高温、耐腐蚀、耐磨损抗热震、密度低且硬度高等优异性能,是陶瓷基复合材料的增强、增韧添加剂,又是结构陶瓷的新型材料。产品在陶瓷密封件、陶瓷滚珠、陶瓷刀具、超硬耐磨机械配件、陶瓷装甲、陶瓷汽车发动机配件等复合材料的增强增韧等方面得到了广泛的应用,在航空、航天、核能、化工、机械、冶金等领域有广阔的应用前景。为适应国内外市场对纳米陶瓷材料的需求,现将公司生产规模扩大到180万吨的计划,需投入资金1800万元,我厂以现有资产作价投资,清华大学技术入股,另需融资1000万元,组建新的股份制公司。项目投产后可实现年销售收入5300万元,利润2200万元,投资回收期2.12年。
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