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一、稀土抛光粉，选Fe2O3还是CeO2？
人们最先使用的是 Fe2O3抛光粉，但是其抛光速度慢，铁锈也导入了污染无法去除。
1933 年，稀土氧化物首次在欧洲被用作玻璃抛光材料，许多科研工作者多方面研究了稀土抛光粉的抛光质量和抛光速率。因为铈基稀土抛光粉具有环保、高效的优点，人们放弃了之前的氧化铁抛光粉。
二、稀土抛光粉的“个人”简介
1. 它是谁？
稀土抛光粉是指一种以氧化铈为主体成分用于提高制品或零件表面光洁度的混合轻稀土氧化物的粉末。通常以氟碳铈矿精矿或可溶性稀土盐类为原料，经化学法处理、灼烧、粉碎、筛分等过程制成。
稀土抛光材料具有粒度均匀、硬度适中、抛光效率高、使用寿命长、抛光质量好、清洁环保等优点，具有优异的抛光效果，也被誉为“抛光粉之王”。
来源：山东鑫方园新材料科技有限公司官网
2. 它在哪儿——产业链
稀土抛光粉行业产业链上游原材料为稀土，目前我国稀土抛光材料的市场份额占抛光材料市场 85%以上，近些年，为保护和合理开发优势矿产资源，相关部门多次对部分矿种进行保护性和限制性开发，稀土矿、钨矿等都曾是我国特定矿种，实行开采总量控制，由于资源的有限性，我国稀土抛光粉行业面临较大的上游行业风险。稀土抛光粉行业下游主要是光学玻璃、盖板玻璃、电子元器件、智能手机等行业。
来源：智研咨询，中国粉体网整理
3. 它的样子——分类
当前市场上流行的抛光粉，根据其含 CeO2的多少可以分成三类。
第一类是含有40%-70%稀土氧化物的低铈抛光粉，二氧化铈的含量大约为30%-65%。
第二类是含有80%-90%稀土氧化物的中铈抛光粉，二氧化铈的含量大约为40%-80%。
第三类是含有90%以上稀土氧化物的高铈抛光粉，二氧化铈含量大于80%，具
有粉体大小均匀，纯度高，抛光时间较长的优点，使用高铈抛光粉抛光的玻璃无污染、表面均一，常应用于半导体元件、光学镜头、精密光学仪器等元件的抛光。
来源：包头天骄清美稀土抛光粉有限公司官网
4. 它有何用——应用
稀土氧化物应用于玻璃行业的抛光由来已久，其极高的抛光效率以及优异的抛光效果使之成为该行业抛光的最优之选。特别是在精密光学仪器的抛光方面，稀土抛光粉的抛光效率高、抛光效果好、操作环境清洁、污染小，这些优点使其在精密光学仪器的抛光上有了“抛光粉之王”的美誉。
曲面显示用盖板玻璃 来源：四川旭虹光电科技有限红四官网
将聚合物/无机物粒子包覆形成复合材料磨粒也是近些年稀土抛光粉的重要应用。此外，铈基稀土抛光粉在解决大尺寸硅片高表面平整度、高光滑度与高洁净度这三个问题方面起到了关键作用。
超薄抛光硅片 来源：中硅半导体(扬州)有限公司官网
三、稀土抛光粉的现在与未来
1. 产业现状
20世纪30年代，欧美首先进行了研究开发，利用稀土氧化物用作抛光粉来抛光玻璃。目前世界的稀土抛光粉生产商，大多集中在中国、日本、美国、法国、英国、韩国等国家。相比于其它国家，日本具有较强的优势，不但产量规模很大，同时也在全球客户中取得了主要的市场占有率。
20世纪60年代开始，中国就开始大量生产稀土抛光粉，主要以混合稀土抛光粉、石膏石和纯氧化铈等为原料。到了 20 世纪 70 年代，稀土抛光粉已经代替了常规的氧化铁，用于玻璃打磨。20世纪90年代，中国稀土抛光粉材料的制备、应用以及生产技术方面都获得了长足的发展。稀土抛光材料领域出现了从传统玻璃表面加工到光电子显示产品的新发展，从传统应用到光电高科技应用的改进。在产量方面，国内稀土抛光材料的应用从20世纪80年代的不到40吨增加到2018年的3万吨左右。2022 年，我国稀土抛光材料产量达到 3.73 万吨，居世界第一。
来源：胡珊珊等，稀土抛光粉产业发展现状与前景，中国粉体网整理
2. 国内企业发展情况
国内稀土抛光粉生产商主要有凯盛科技、北方稀土、麦丰新材、广州新稀、昊锐稀土、华明高纳、鑫方园、佳鑫纳米、荣瑞达、国瑞升等。其中凯盛科技是世界500强中国建材集团以玻璃新材料为核心的科技创新产业平台。北方稀土是我国最早建立并发展壮大的国有控股稀土企业，实现了稀土上中下游一体化发展，构筑了行业领先的全产业链竞争优势。麦丰新材主营业务为稀土抛光粉及抛光液，二氧化硅抛光液，氧化铝抛光粉及抛光液，氧化锆抛光粉及抛光液，稀土纳米材料的研发、生产、销售。
来源：智研咨询
3. 现存问题
（1）目前中低端的稀土抛光粉已经无法适应国内外市场的需要。对于少数高档稀土抛光粉的应用来说，在半导体集成电路浅槽离技术 (STI)方面，与外国相比具有一定的工艺差距。在关键部件的抛光中，主要依赖于进口。
（2）稀土抛光粉的发展趋势呈现两极分化态势。目前，中国的稀土及抛光粉行业发展不平衡，中小企业数量众多，大型企业少。在国际市场上很难拥有竞争优势。而这些中小企业产品同质化严重，导致竞争激烈、利润较低。然而，少数大型企业仍继续提高创新能力，优化生产流程，提高产品质量，并致力于服务高端领域，从而产生了两极差异化。
（3）目前，新型稀土抛光材料的研究进展相对缓慢，稀土材料抛光粉的技术问题主要表现为：生产工艺落后、粒径控制技术不成熟、大颗粒及杂质难以消除、晶型控制不完全、高端稀土抛光材料产业化生产的稳定性差。
4.未来发展
随着我国的光电信息产业的高速发展，稀土抛光粉的使用领域也在不断改变，由传统的电视显像管用玻壳抛光等普通抛光，到了液晶显示等更精确的电子光学设备用高性能抛光。
基于趋势的研究，液晶显示等中高端的电子光学设备生产工艺也是当前稀土抛光粉的主要应用研究热点。日本昭和已经实现电气装置、半导体器件抛光、电脑驱动件抛光、玻璃基抛光、PC 及液晶抛光等的先进技术，体现出了抛光粉材料在未来的发展趋势。
高档抛光粉的高附加值、经济效益强大，在我国高新科技领域中显示出重要地位，具有广阔的应用前景。
参考来源：
[1] 董硕，稀土抛光粉废料回收过程研究
[2] 中国粉体网、包头科协、稀土信息、智研咨询
[3] 山东鑫方园新材料科技有限公司
[4] 包头天骄清美稀土抛光粉有限公司官网
[5] 四川旭虹光电科技有限红四官网
[6] 马翔宇等，抛光压力和抛光垫硬度对PMMA-CeO2核壳复合磨粒抛光性能的影响
[7] 李启厚等，超细粉体材料表面包覆技术的研究现状
[8] 贾慧灵等，一种微波条件下氟化二氧化铈抛光粉的制备方法
[9] 中硅半导体(扬州)有限公司官网
[10] 胡珊珊等，稀土抛光粉产业发展现状与前景
[11] Wanying Wang et al. Composite particles with dendritic mesoporous-silica cores and nano-sized CeO2 shells and their application to abrasives in chemical mechanical polishing.
（中国粉体网编辑整理/山林）
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