中国粉体网讯 近日，国家知识产权局信息显示，昂士特科技（深圳）有限公司（以下简称“昂士特”）取得一项名为“一种用于金属合金的化学机械抛光组合物及其抛光方法”的专利，无腐蚀抛光设备中的金属部件的风险。
来源：国家知识产权局
化学机械抛光技术是目前应用最广且能够实现全局和局部平坦化的技术。该技术综合了抛光液的化学腐蚀作用和磨粒及抛光垫的机械去除作用，以实现抛光后工件表面的良好质量、无损伤和高面形精度。
在抛光过程中，抛光液中的化学添加剂和材料表面发生反应，会在被抛材料表面形成一层很薄、结合力较弱的“软化层”，之后磨粒在压力和摩擦作用下对材料表面进行细微无损地去除。
但一些应用广泛的金属合金耐腐蚀性差，严重制约其推广，比如镁合金。镁合金作为迄今为止发现的最轻的金属合金之一，具有低密度、高比刚度和强度，以及优异的电磁屏蔽性能，在航空航天、交通运输和 3C 产品领域具有广泛的应用，但因其耐腐蚀性差，影响其发展。
昂士特本次发明“一种用于金属合金的化学机械抛光组合物及抛光方法”。该组合物包含氧化铝磨粒、氧化剂、分散剂、pH调节剂，其中，所述分散剂为纳米粘土，所述纳米粘土具有至多1000nm的z平均粒径。该组合物能用于金属合金基材平面的抛光，其具有接近中性的pH值，无腐蚀抛光设备中的金属部件的风险。
昂士特成立于2019年初，是一家集研发、生产、销售于一体的高新技术企业，致力于开发集成电路关键紧缺新型材料。公司秉承“锲而不舍、奉献担当”的价值理念，坚持“自主研发、规模生产”的目标宗旨，力求为全球客户提供最优质的抛光液以及最佳的表面技术解决方案。昂士特总部及研发中心位于粤港澳大湾区核心城市——深圳市，华东生产基地与先进技术研究院位于半导体产业新兴基地——合肥市。公司核心团队具有多年的高科技研发及客户服务经验，具备扎实的技术背景和先进的管理理念。
参考来源：
[1]国家知识产权局、昂士特官网
[2]许宁等，CeO2基磨粒在化学机械抛光中的研究进展
[3]赵仕程，镁合金的化学机械抛光液研究
[4]李雯浩等，IC互连金属及其阻挡层化学机械抛光的研究进展
[5]孙兴汉等，碳化硅化学机械抛光中材料去除非均匀性研究进展
（中国粉体网编辑整理/山林）
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