化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD）是应用气态物质在固体上产生化学反应和传输反应等并产生固态沉积物的一种工艺。安徽贝意克多年来坚持在技术和产品方面持续创新，最新研发BTF-1200C-III-3D-CVD-D210智能型连续进出料CVD设备，为您提供了一种全新的解决方案，告别低效烧制，贝意克助您迈向连续进出料CVD时代！

高效率：设备在使用过程中，可以在加热炉不停止加热的情况下，连续进料、出料；与常规加热设备相比，省去了因加热炉升温、降温过程中等待的时间，极大的提高了设备的使用效率。

操作便捷：左右进出料采用智能推拉机构，可实现真空或惰性气体保护下将载具推送进高温炉或将载具拉离高温炉，操作更方便。

安全、低能耗：设备表面温度＜60℃，有效保护科研人员和材料；省去多次升温频率，能耗低节能更环保，适合工业化生产。

贝意克智能型连续进出料CVD设备包含主要由七大部分，进料腔，大口径管式炉、出料腔、推拉机构、供气系统、真空系统、以及自动化控制软件组成。广泛应用于纳米材料、半导体、金属材料、特种陶瓷等新材料研发。

BTF-1200C-III-3D-CVD-D210智能型连续进出料CVD设备

特征

进/出料腔

我们设备的左侧进料腔和右侧的进料腔均配有一个16mm的推料杆，可以实现真空或惰性气体保护下推送载具进入高温炉内；进料腔右侧法兰通过气动插板阀与高温炉链接和隔断，可以实现进料腔和高温管式炉相互独立工作，互不干扰。

高温生长炉

该设备是大口径管式炉采用优质电阻丝加热，最高使用温度可达1100℃，加热区长度为150+300+150mm，采用3段控温且每段上下两点控温的方式，可有效提高温差均匀性；同时系统设置了超温、欠温、断偶报警保护功能，大大降低了对操作人员经验的要求。

智能推拉机构

进料腔左侧密封法兰上配有推料杆及轨道；出料腔右侧密封法兰上配有拉料杆及轨道；可以实现真空或惰性气体保护下将载具推送进高温炉或将载具拉离高温炉，智能推拉机构，操作更为便捷。

三路供气系统可自由调节流速可混气

该设备包含3部分供气系统，进料腔配备1路质量流量计惰性气体供气装置，高温生长炉配备1路质量流量计惰性气体混气装置，出料腔配备1路质量流量计惰性气体供气装置；共计5路质量流量计。（可按客户需求定制真空系统）

三套真空系统 按客户需求定制

该设备的进料腔配备1套机械泵（机械泵抽速16m3/h、型号DRV-16），高温生长炉1套机械泵（机械泵抽速24m3/h、型号DRV-24），出料腔配备1套机械泵（机械泵抽速16m3/h、型号DRV-16）。

彩色触摸屏数字控制系统

采用触摸屏自动控制，参数设置和操作直观方便，可进行温度、时间等参数快速设定；参数自动记录保持，一键操作。具有人性化，直观化，集成度高，控制工艺成熟，系统稳定可靠，性价比高等优点。

一站式服务规划

量身打造的解决方案，个性化的建议

想要根据用户的需求定制合适的产品，就要考虑到各种不同因素。我们为用户提供全面支持，从产品下单到交付到售后运维的设备全生命周期内服务，我们拥有业界领先的技术，始终如一的产品质量；全面的客户服务，经验丰富且专业的销售和技术支持团队；现场支持能力，贝意克销售就在客户身边，随时为客户提供服务。

设备参数 

可按客户需求定制