高温立式炉

品牌：贝意克
产地：安徽
关注度：8062
型号：略
报价：面议
信息完整度：

核心参数

非金属电热元件：其他
金属电热元件：其他
烧结气氛：其他

展位推荐

卷对卷连续化生长CVD设备RTR-III-80

大面积CVD石墨烯生长设备

前端预热法硫化钼制备设备

六通道管式炉

产品介绍

高温立式炉

主要特点

　　VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热，专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结，**温度可以达1600℃，采用双层壳体结构，使得壳体表面温度小于65，高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料，主要应用领域如碳纳米管生长，陶瓷烧结退火，单晶生长等。

技术参数

额定功率	4KW
额定电压	AC 208-240V 50/60 Hz
**温度	1600℃（1 hour）
持续工作温度	500-1550℃
推荐升温速率	≤10℃/min
炉管尺寸	刚玉管φ100*1200mm
温区数量	两个独立温区
加热区长度	760mm
恒温区长度	400mm
控温方式	模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
触摸屏尺寸	7寸
控温精度	±1℃
加热元件	8根U型硅钼加热棒
法兰	折页法兰
标准配置	刚玉管1根，氧化铝管堵2只，不锈钢密封法兰1套，硅胶密封圈2 套，高温手套1副，坩埚钩1支
认证标准	CE

问商家

高温立式炉的工作原理介绍？
高温立式炉的使用方法？
高温立式炉多少钱一台？
高温立式炉使用的注意事项
高温立式炉的说明书有吗？
高温立式炉的操作规程有吗？
高温立式炉的报价含票含运费吗？
高温立式炉有现货吗？
高温立式炉包安装吗？

相关产品

高温真空退火CVD系统 BTF-1200C-VI-SL-CVD-D210

型号：BTF-1200C-VI-SL-CVD-D210

面议

纳米线生长专用设备

型号：BTF-1400C-III-VT

面议

小型滑轨式PECVD系统

型号：BTF-1200C-S-SL-PECVD

面议

小型组合式多通道管式箱式炉

型号：BTF-1200C-4D-4M

面议

工商信息

企业名称

安徽贝意克设备技术有限公司

企业类型

信用代码

91340100591423143H

法人代表

注册地址

成立日期

注册资本

有效期限

经营范围

联系我们

安徽贝意克设备技术有限公司

客服电话

安徽贝意克设备技术有限公司成立于2012年，基地位于安徽合肥，是一家集新材料设备研发、生产、销售与技术服务于一体的高科技企业。公司历经十余年的艰苦创业已由当年的行业追随者发展成为今天的行业领跑者。公司重视技术攻关和产品研发，建有一流的产品研发中心，拥有一支由多名博士硕士组成的专业研发队伍，累计获得**200余项。并通过产学研合作，与北京大学南开大学等多所知名院校建立联合实验室及研究生联合培养基地公司专注于新材料装备工艺开发及装备制造，产品门类

推荐产品
供应产品

手机版：

高温立式炉