石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前微纳加工中常用的等离子刻蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，Moorfield Nanotechnology与曼彻斯特大学诺奖得主Andre Geim课题组联合研发了台式超精准二维材料等离子软刻蚀系统- nanoETCH。与传统的刻蚀方案相比，nanoETCH在石墨烯和2D材料的关键加工中表现出了很高的性能。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量级，对二维材料可实现超精准的逐层刻蚀，也可实现对二维材料进行层内缺陷制造，还可对石墨基材等进行表面处理。该系统性能已经在剑桥大学石墨烯中心、曼彻斯特大学、英国国家石墨烯中心、西班牙光子科学研究所等诸多用户实验室得到验证。

该系统可刻蚀3英寸或更大尺寸的样品，样品放置在专门设计的样品台上，低功率毫瓦级精细控制的射频单元提供高精度的刻蚀功率，分子泵高真空系统可确保样品免受污染。

应用方向举例：

石墨基材的处理：表面处理，更有利于剥离出大面积的石墨烯

微纳刻蚀：去除石墨烯，对其他区域无损伤

缺陷加工：在石墨烯层中制造点缺陷

主要特点：

◎ 软刻蚀功率：<30w 高精度射频源

◎ MFC-流量计控制

◎ 3英寸、6英寸样品台

◎ 全自动触屏操作系统

◎ 设定、保存多个刻蚀程序

◎ 可连接电脑记录数据

◎ 本底真空<5×10^-7 mbar

◎ 易于维护

◎ 完备的安全性设计

◎ 兼容超净室

◎ 稳定的性能表现

系统选件：

◎ 机械泵类型可选

◎ 腔体快速充气

◎ 超高精度射频源控制

◎ 高精度气压控制

◎ 增加过程气体

用户单位：