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UMR 系列双列滚珠轴承线性平移台具有坚固的钢结构和双列滚珠轴承，提供优异、平滑、线性的行程，同时还能承载高负载。移动托架预装入了两个弹簧，确保与测微计的恒定接触和无侧隙运动。
线性、单轴、双列滚珠轴承平移台
尺寸和行程的选择范围广
薄型钢结构，可实现高稳定性和刚度
中心载重能力高达 200 磅。
提供以螺纹安装或未以螺纹安装的测微计，偏差小于 200 ?μrad
产品规格
| 型号 | UMR3.5 | UMR5.5 | UMR5.16 | UMR5.25 | UMR8.4 |
|---|---|---|---|---|---|
| * da位移台行程 | 5 mm | 5 mm | 16 mm | 25 mm | 4 mm |
| 负载 | 600 N | 600 N | 600 N | 600 N | 900 N |
| 垂直负载能力 | 40 N | 40 N | 40 N | 40 N | 100 N |
| 螺纹类型 1 | 8-32 | 4-40， 8-32 and 1/4-20 | 4-40， 8-32 and 1/4-20 | 4-40， 8-32 and 1/4-20 | 8-32 and 1/4-20 |
| 平台尺寸 | 29 x 38.5 mm | 50 x 58 mm | 50 x 58 mm | 50 x 68 mm | 80 x 92 mm |
| 角度偏差 | <100 μrad | <100 μrad | <200 μrad | <200 μrad | <200 μrad |
| 滚转顺应性 | 0.7 mrad/Nm | 0.1 mrad/Nm | 0.1 mrad/Nm | 0.1 mrad/Nm | 0.05 mrad/Nm |
| 俯仰顺应性 | 0.3 mrad/Nm | 0.2 mrad/Nm | 0.2 mrad/Nm | 0.2 mrad/Nm | 0.05 mrad/Nm |
| 偏摆顺应性 | 0.5 mrad/Nm | 0.2 mrad/Nm | 0.2 mrad/Nm | 0.2 mrad/Nm | 0.05 mrad/Nm |
| 材料 | Steel | Steel | Steel | Steel | Steel |
| 轴承 | Double-Row Ball Bearings | Double-Row Ball Bearings | Double-Row Ball Bearings | Double-Row Ball Bearings | Double-Row Ball Bearings |
| 驱动位置 | Center drive | Center drive | Center drive | Center drive | Center drive |
| 推荐使用 | DM11-5 | DM11-5 | DM11-16 | DM11-25 | BM17.04N |
| 推荐使用 | DM11-5 | DM11-5 | DM11-16 | DM11-25 | BM17.04N |
Notes:
-M versions and Aperture Versions have the same specifications as the imperial versions shown.
M-UMR stages have M4 threads. M-UMR5 stages have M3， M4 & M6 threads. M-UMR8 stages have M4 & M6 threads.
特征
低轮廓并具有各种尺寸
这些 UMR 线性位移台提供从 0.2 英寸 (5 mm) 到 3.15 英寸 (80 mm) 的行程。平台可以单独出售，也可以与灵敏度为 1 或 0.1 μm 的螺纹式测微计狭缝一起出售，以满足您的特殊需要。对于需要光学通道的应用，还提供了具有中心孔径的平台。
面向平滑移动和重型负载的双列滚珠轴承
滚珠轴承滑块通过滚动运动提供更加平滑的位移。滚珠轴承通过具有哥特轮廓的硬化钢杆捕获在导轨中。这只产生*小摩擦的两个接触点，即使*小的增量运动也能提供极其平滑的行程。与其他滚珠轴承设计的 4 点接触相比，更少的接触点也意味着更少的差式滑动，并提供更高的载重能力。较低的差式滑动保持摩擦和磨损*小，增加了这些平台的耐久性和寿命。
轻松配置
在这些平台上含有丰富的螺纹孔型，为在平台安装表面上安装组件提供了*多选择。可以轻松地将两个位移台堆叠在一起，从而可以提供 X-Y 位移，并可以通过选配的 M-PBN 安装基座可靠地安装到平台或面包板实验板上（UMR8 和 UMR12 不需要安装基座）。垂直平台配置也可以使用我们的 EQ 系列斜支架轻松组装。此外，UMR 台兼容 UTR/URM 旋转台和 BGM 测角仪，提供了无数的配置可能，即可满足更小规模光学系统的需要，也可满足更大规模光学系统的需要。
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