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氮化硅压力炉

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氮化硅压力炉设备用途:氨化硅基板，氨化硅球以及结构件的烧结。设备特点:1.温度:max2400摄氏度2.温度分布精度:R103.发热体:石墨4.压力:1Mpa5.气氛:N2环境，氧含量小于100ppm