在碳化硅的“疯狂”之下，对SiC晶圆加工环节同样重视且需求巨大。

8月28日，住友化学宣布成功开发出一种高纯氧化铝的量产技术。

提高稀土抛光粉的抛光性能，要从这几点入手

“抛光粉之王”的技术现状

陶瓷基板往往需要适应更严苛的工作环境，这对陶瓷基板的表面粗糙度、平整度等提出了更高的要求。

稀土抛光粉抛光效果的表征

SiO2磨料在CMP抛光液中分散稳定性分析。

鼎龙股份控股子公司鼎汇微电子CMP抛光垫产品销售持续保持增长态势，并于2024年5月首次实现抛光硬垫单月销量破2万片的单月历史新高。

拟3亿元投建半导体芯片抛光垫项目，彤程新材加码半导体材料布局。

金太阳子公司：已完成半导体级抛光液的性能验证并具备量产能力。

万华化学集团股份有限公司申请一项名为“一种长时间高速率的钨化学机械抛光液及其应用“，公开号CN117947422A

近日，深圳中机新材料有限公司完成过亿元A轮融资，本轮融资资金将用于产线升级、人才引进及市场推广等。

普瑞昇新材完成千万元PreA轮融资，本轮融得资金将进一步夯实公司运营能力，保障公司在得到下游客户验证后能迅速扩产。

国家发展改革委会同有关方面对《西部地区鼓励类产业目录（2020年本）》进行了修订，形成了《西部地区鼓励类产业目录（修订征求意见稿）》。目录中涉及特种陶瓷、第三代半导体、稀土抛光材料等。

产品分类：吉致电子·抛光垫产品名称：无纺布抛光垫/碳化硅SIC抛光垫/suba800替代产品特点：吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比（177----06-----

高纯氧化铝是指纯度为99.99%以上的氧化铝。高纯氧化铝粉呈白色粉末，化学性能稳定，高温收缩性能适中，具有良好的烧结性能以及普通氧化铝粉无法比拟的光、电、磁、热和机械性能，在高技术新材料领域和现代工业中有着广泛应用。

0.2um超细氧化铈抛光粉基本信息：CAS1306-38-3性质：1，纳米氧化铈晶型完好，比重大，在陶瓷中不易形成气孔。产品具有良好的分散性透明性，易于添加在塑胶、硅橡胶等聚合物中；2，纳米氧化铈具有比表面积大的特点，适合于涂层材料或催化剂中使用；应用领域：1，光学抛光2，玻璃抛光3，宝石抛光4，硅

铝合金精抛液1.主要成分:硅溶胶、表面活性剂、分散剂、螯合剂2.产品功能:专门针对铝合金精抛的一款高效精抛液，本产品长时间不结晶，并具有容易清洗特性，缓解了整个行业所面临的硅溶胶结晶严重和清洗困难的问题。应用领域：适用于铝合金材质的3C产品的表面处理。

产品分类：吉致·碳化硅研磨抛光·半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光（177---06----168---670李）应用中