前言
随着蓝宝石、碳化硅、氮化镓、金刚石等新一代半导体材料的兴起，适用于硬脆材料的高端研磨抛光技术已成为全球研发的重点。另一方面，光学材料的超精密加工也日益成为高端制造领域的关键环节。在技术攻坚与国产替代的双重驱动下，研磨抛光市场一片火热。
会议通知
2026高端研磨抛光材料技术大会
会议背景随着社会的发展，工业的进步，轨道交通、电子电力和航空航天等领域对于功率器件的需求与日俱增。其中，晶圆、陶瓷基板等关键部件将持续爆发，而这些关键部件往往要求极精密的结构尺寸和极高的平整度，抛光作为该类部件生产过程中最为关键的环节，决定了产品整体质量的好坏。在晶圆制造材料的成本拆分中，抛光材料占
专家讲堂
企业动态
原料技艺
抛光市场
全球半导体材料市场将超870亿美元！CMP抛光液能吞下多少？
中国粉体网讯 材料和设备是半导体产业的基石，是推动集成电路技术创新的引擎。半导体材料处于整个半导体产业链的上游环节，是半导体产业的基石和推动集成电路技术创新的引擎，对半导体产业发展起着重要支撑作用，与下游半导体市场的发展紧密相关。受益于半导体产业长期发展趋势，全球半导体材料市场规模保持增长态势，且制
解决方案
研磨膏
选用优质的金刚石微粉为原料，辅以多种助剂，通过充分混合、分散而成。产品分为单晶和多晶两种，针对不同材质器件和工艺要求，可以达到理想的抛光效果。主要应用于模具、硬质合金、陶瓷等材料的抛光。可供规格：粒度（μm）单晶多晶0.5√√1√√3√√6√√9√√15√—30√—50√—备注：除以上规格外，可根据
单晶金刚石研磨液
采用精选的金刚石微粉为磨料，具有良好的切削力和加工表面效果，加工成本相对较低。产品分散性好，粒度分布均匀、规格齐全、质量稳定。有水基和油基两种，广泛用于各种工件的研磨和抛光。可供规格：产品名称单晶金刚石研磨液粒度（μm）0.10.250.51369152030适用工艺抛光精磨粗磨备注：除以上规格外，
聚氨酯抛光垫
颜色：棕红色；硬度：邵A80±5；填充物：氧化铈；密度：0.48g/cm³±0.05；适用：玻璃镜片、精密光学玻璃、导电膜玻璃、COVERLENS玻璃、TFT-LCD玻璃减薄及蓝宝石基板的抛光；性能特点：常用于大平面抛光，通用性较强。
聚氨酯抛光片 HG26
型号:HG26；粉色； 硬度：邵A88±3； 填充物：氧化锆； 密度：0.60±2； 适用于精密光学透镜、棱镜的抛光。可使被加工工件光圈更稳定，不塌边。各项性能指标与进口LP26相似。 Type:HG26;pink; Hardness:ShoreA88±3; Filler:zircon
纳米二氧化硅抛光粉
纳米二氧化硅抛光粉镜面抛光粒径50nm100nm厂家供货我公司二氧化硅抛光粉经纳米工艺生产的一种高纯度颗粒均匀，分散性好，切削力好，镜面效果好的抛光粉，广泛用于多种材料纳米级的平坦化抛光，抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，光学器件、蓝宝石片等的抛光加工，金属镜面抛光。抛光特点
吉致电子JEEZ蓝宝石抛光液
无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/SapphireSlurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石
CMPPAD抛光垫/研磨垫/阻尼布 多种硬度可选
氧化铝抛光布/抛光垫可**替代：POLYPAS、Supreme(Politex)、UNI-NAP精抛皮、PRIMAR、SUBA800\600白色抛光垫片、UNALUX终道抛光垫、IKONIC研磨垫、LP、KSP等进口CMP抛光片。产品用途：用于对LED半导体、砷化镓、氮化镓、滤光片、玻璃，蓝宝石，石
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