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设备特点
1. 高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，**真空可达10-4Pa；
2. 可配合压强控制仪控制气体压力，实现负压的精准控制；
3. 数字质量流量控制系统是由多路质量流量计，流量显示仪等组成，实现气体的流量的精密测量和控制；
4. 每条气体管路均配备高压逆止阀，保证系统的安全性和连续均匀性；
5. 采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；
6. 管路采用世界**Swagelok卡套连接，不漏气；
7. 超温、过压时，自动切断加热电源及流量计进气，使用安全可靠；
8. PECVD借助射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，更容易发生反应。
设备参数
类别 | 加热炉 | 射频电源 | 真空系统 | 混气系统 | 压强控制系统 | 尾气处理系统 | ||||
温度 | 加热区 | 型式 | 管径 | 长度 | ||||||
CVD | 1200～ 1700℃ | 220～ 440mm | 卧式、滑动式 | Φ60～ Φ100 | 600～ 1600 | 无 | 10Pa | MFC单路或多路控制 | 可选 |
（可选） |
CVI | 1200～ 1700℃ | 220～ 440mm | 立式、滑动式 | Φ60～ Φ100 | 600～ 1600 | 无 | ||||
PECVD | 1200℃ | 220～ 440mm | 卧式、滑动式 | Φ60～ Φ100 | 1200～ 1600 | 300～ 500W | ||||
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