上市时间：2019年8月

Spectra 300包括三种光源选项：XFEG Mono，X-FEG UltiMono和X-CFEG，专为*广泛的样品进行极端原子级成像和分析而设计。Spectra 200提供200 kV X-CFEG，是高对比度成像和化学分析的理想选择。

生产合适的材料并做出正确的设计选择对于解决诸如开发更安全和更持久的电池，创建更轻的材料以提高能效以及构建更快，更高容量的计算机处理器或存储设备等挑战至关重要。Spectra非常适合需要在原子水平上表征各种材料的学术或工业实验室的研究人员。它允许他们制造轻质材料，如先进钢，铝合金或塑料，用于开发更安全或更省油的运输。Spectra还支持新半导体结构和材料的研究，为未来的高性能电子器件提供必要的构建模块。

Spectra新的检测功能，使科学家和工程师能够获得以前难以获得的原子级数据，以满足更广泛的应用需求。该平台可以获得极其光束敏感的材料和半导体结构的详细图像，包括金属有机框架，沸石和聚合物，如果暴露在电子束中太长时间或在错误的电压下可能会损坏或破坏。它还满足了使用EDX（能量分散X射线）或EELS（电子能量损失光谱）等多种方式对大量原子级化学分析的不断增长的需求。

特点和优点：