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仪器简介：
全球专业的薄膜沉积生长速率监控系统，采用无损的激光技术实时原位检测薄膜沉积速率、薄膜厚度以及光学常量（n&k），可广泛的应用于金属有机化学气象沉积MOCVD、分子束外延MBE、溅射系统Sputtering和蒸发系统等薄膜沉积过程的实时原位监控。
主要特点：
*实时薄膜沉积速率、薄膜厚度和光学常数（n&k）分析，同时标准偏差统计分析；
*自动程序化校准；
*精密的实时反馈系统；
*程序控制，可实时多层薄膜沉积监控和控制；
*多Wafer监控功能；
*Wafer基底旋转监控和控制功能；
*所有参量原位实时检测；
*操作装配简单便捷；
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