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器简介：射频离子源：用于离子束沉积，离子束辅助沉积，MEMS
射频原子源：用于合成氧化物，氮化物，氢原子清洗
技术参数：
射频离子源
安装法兰口径：NW63CF，NW100CF
真空腔体内长度：290mm
真空腔体内端面直径：57mm， 96mm
兼容气体：O2， N2， H2， Ar
水冷
射频功率：30-600W
气体流量：8-10sccm
束流能量：0.1-1kev
电流密度：可大到5mA/cm2
射频原子源
安装法兰口径：NW35CF，NW63CF，NW100CF
真空腔体内长度：290mm
真空腔体内端面直径：34mm，57mm， 96mm
兼容气体：O2， N2， H2， CH4
水冷
射频功率：30-600W
气体流量：0.01-20sccm
主要特点：
无灯丝
安装容易，可方便地安装在已有系统上
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