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磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)
磁控溅射源/靶枪(1英寸/2英寸/3英寸)

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技术参数:我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶枪

安装法兰口径:NW63CF,NW100CF

真空腔体内长度范围:150-400mm

真空腔体内端面直径:60-96

靶材直径: 1", 2" and 3"

靶材**厚度:4-6mm

冷却:水冷

特点:

100%超高真空(UHV)应用

独有的放射性沉积模式

在线Z轴驱动及倾斜

水冷时不会存在水汽

平衡靶和非平衡靶设计

高强度磁体应用于磁性材料

应用领域:

PVD沉积

金属涂层

纳米结构薄膜

多层镀层

反应溅射

射频溅射,直流溅射,脉冲直流溅射

硬质涂层

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