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RDB-BC-CrSi品牌
上海研倍产地
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上海研倍新材料 专业生产定制 各类靶材 合金靶材
1、产品信息
货号 | 厚度 | 纯度(%) | 形貌 | 颜色 |
RDB-BC-CrSi | 可定制 | 99.9 | 靶材 | 金属光泽 |
2、产品规格
定制
3、产品概述
铬硅(CrSi)靶材是一种用于物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)等薄膜沉积技术的材料。它通常用于制备具有特殊功能的薄膜材料,例如用于光学涂层、电子器件和传感器等领域。
铬硅(CrSi)靶材具有优异的物理和化学性能,包括高熔点、良好的导热性和化学稳定性。这使得它在高温环境下能够提供稳定的性能。
4、产品用途
光学涂层:铬硅靶材可用于制备具有特殊光学性能的薄膜材料,如反射镜、透镜和光学滤波器等。
电子器件:铬硅靶材可用于制备半导体器件、光电子器件和显示器件的薄膜材料,以提高其导电性、光学性能和稳定性。
表面涂层:铬硅靶材可用于制备具有特殊表面性能的涂层,如耐磨涂层、防腐蚀涂层和陶瓷涂层等,以提高材料的耐用性和功能性。
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高熵合金(High entropy alloys,HEAs)是由4种或4种以上元素以等摩尔比或近似等摩尔比组成的具有简单晶体结构的合金。与传统合金不同,高熵合金没有主体元素,倾向于形成简单固溶体结构,