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新一代磁控溅射卷绕镀膜设备
新一代磁控溅射卷绕镀膜设备

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型号

新一代磁控溅射卷绕镀膜设备

品牌

中科唯实

产地

四川

样本

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成都中科唯实仪器有限责任公司

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主要技术指标:

基材厚度:PET:10-125μm;PI:8-75μm

有效镀膜幅宽:1300mm

6组溅射阴极,其中1组孪生阴极

纯金属溅射靶材利用率≥35%;反应溅射靶材利用率≥30%;

真空抽率:卷绕室从大气状态到2×10-2Pa,需要时间≤35min 

镀膜室(清洁、空载)极限压力:≤5×10-4 Pa;

卷绕室压升率(清洁、空载):≤0.5Pa/hr(深冷冷阱工作)

放、收卷径:400mm(**);放、收卷芯轴直径:6 inch(150mm) ;

反馈控制:磁控溅射反馈补气响应时间≤45μs

镀膜均匀性,重复性测试:在1250mm幅宽范围内溅射均匀性≤±3%

反应溅射气体反馈控制系统(可选):实现对反应溅射的精细控制;

前处理:烘烤解热和线性离子源

在线光学反射率传感系统或欧姆测量传感系统

张力控制范围:0-500N ,控制精度:±1%

基膜走速:0.5—10米/分钟


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