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微波等离子模块-远程微波等离子体系统RPS品牌
奋羽电子产地
四川样本
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远程微波等离子体系统由微波源，等离子腔，自动调配器，环形器和导轨组成，有固态微波源和磁控管电源两种版本可选，是等离子清洗设备、蚀刻设备、去胶设备和镀膜设备的核心部件，搭载在等离子表面处理设备上通过把电能转化为微波能将输入气体（Ar、O2、H2、CF4等）激发成物质的第四种状态-等离子状态从而对目标物质的表面进行污染物和氧化物清洗去胶蚀刻等处理，广泛应用于半导体制造前后道工艺中对晶圆表面的处理，高价值无机材料金属材料等的表面清洁。
| 项目 | 固态源版本 | 磁控管版本 |
| 输出功率 | 3kW | 3kW |
| 输出频率 | 2450MHz±25MHz | 2450MHz±25MHz |
| 频率误差 | ±50ppm | 2%-3% |
微波泄露 | ≤2mW/cm2 | ≤2mW/cm2 |
| 供电电压 | AC380V±10% | AC380V±10% |
| 供电频率 | 50Hz±2Hz | 50Hz±2Hz |
| 进/出水口 | 1/8宝塔接头 | DN15 |
| 冷却方式 | 水冷（Φ10快插接头，水流量≥2.5L/min，进水温度小于 环境温度时，两者温度差≤10°C） | 水冷（Φ10快插接头，水流量≥2.5L/min，进水温度小于环境温度时，两者温度差≤10°C） |
| 控制接口 | RS485通信协议 | 具备本地触摸屏控制及远程通讯功能，MODBUS RTU 标准通讯协议，9600,N,8,1 |
| 工艺气体 | Ar、O2、H2、CF4等（CF4需配耐刻蚀材料） | Ar、O2、H2、CF4等（CF4需配耐刻蚀材料） |
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