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SSB200小Mask系列曝光机品牌
上海微电子产地
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产品特征
高精度
精密的光学系统和先进的测校等技术，保证设备高分辨率，支持新型显示屏的高精度曝光。
低使用成本
较低的运营和维护费用：采用标准6英寸掩模(或其加长版)，2倍放大成像，显著降低掩模费用。
可拼接曝光大尺寸屏
采用精密的拼接策略，依靠优良的控制能力，可实现更大尺寸显示屏幕的拼接曝光。
工艺适应性强
支持多种基板尺寸，可选配红外等多种对准光源波长，适应各种曝光工艺工况。具有多达45片工位的掩模版库，每片独立版盒，对生产制造非常方便。
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