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泽攸科技无掩膜光刻机是一种先进的光刻技术设备，它不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形，而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光，形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域有广泛的应用。
技术特点
▲ 纳米压电位移台拼接技术
▲ 红光引导曝光，所见即所得
▲ OPC修正算法优化图形质量
▲ CCD相机逐场自动聚焦
▲ 灰度匀光技术
光路远离结构图
主要指标
应用案例
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