参考价格
10-20万元型号
CMSD DB2000/04品牌
IKN产地
德国样本
暂无调速范围:
0-14000 rpm分散轮直径(mm):
55全容积(m³):
不限能耗:
4 kW处理量:
300-1000 L/H物料类型:
液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等工作原理:
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IKN 研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封,在冷却水的前提下,可24小时连续运行。而普通乳化机很难做到连续长时间的运行,并且普通乳化机不能承受高转速的运行。
半导体性单壁碳纳米管作为一维纳米材料,重量轻,结构连接,具有许多异常的力学、电学和化学性能。近些年随着碳纳米管及纳米材料研究的深入其广阔的应用前景也不断地展现出来。
半导体性碳纳米管溶液性质
直径:1.2nm-1.7nm
长度:300nm-5μm
金属杂质:<1%
无定型碳:1-5%
半导体性碳纳米管溶液制备难点:
目前制备碳纳米管的方法很多,然而这些方法所制得的产物中除碳纳米管外常常还含有无定形碳、碳纳米粒子及催化剂颗粒等杂质,这些杂质的存在直接影响到碳纳米管的性能测试及其应用研究,因此碳纳米管的纯化研究十分必要与重要。而不同制备方法所得碳纳米管的性质以及所引入的杂质都不相同,这就增加了碳纳米管纯化研究的难度。上海IKN/思峻公司结合该领域研究对碳纳米管的制备方法做了深入研究,根据以往实验经验推荐使用IKN碳纳米管溶液胶体磨。
半导体性碳纳米管溶液研磨机设备介绍:
IKN研磨机在碳纳米管导分散中有着的优势,IKN研磨机是将胶体磨和分散机合二为一的设备,先研磨后分散,可以将碳纳米管充分、均匀的分散到溶剂或树脂当中,避免团聚,分散更均匀、稳定。
半导体性碳纳米管溶液研磨分散机是胶体磨(研磨机)和分散机组合而成的高科技产品。初级由具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
半导体性碳纳米管溶液研磨设备选型推荐表:
型号 标准流量L/H 输出转速Rpm 标准线速度m/s 马达功率KW 进口尺寸 出口尺寸
CM2000/4 300-1,000 14,000 44 2.2 DN25 DN15
CM2000/5 1,000-1,500 10,500 44 7.5 DN40 DN32
CM2000/10 3,000 7,300 44 15 DN50 DN50
CM2000/20 8,000 4,900 44 37 DN80 DN65
CM2000/30 20,000 2,850 44 75 DN150 DN125
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碳纳米管高速分散机
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