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产品详情
硫化物CVD系统(分体式)
硫化物CVD系统(分体式)的图片
参考报价:
面议
品牌:
翰军
关注度:
990
样本:
暂无
型号:
硫化物CVD系统(分体式)
产地:
上海
信息完整度:
典型用户:
暂无
非金属电热元件:
其他
金属电热元件:
其他
烧结气氛:
其他
温控精度:
±1℃
最高温度:
1050℃
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认证信息
白金会员 第 3
名 称:上海翰军实验设备有限公司
认 证:工商信息已核实
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产品简介

一、概述

此套系统H-CVD-1200S前端配有可加热到0-1000℃的蒸发器,辅助固体源蒸发,后端为双温区硫化炉,温度控制精确,操作简便。

左端配有法兰支撑架可将预热器和硫化炉分开使用。右端可配气氛微调装置,可以准确的反应腔体内部的气体压力,带刻度的调

节阀对于做低压CVD非常实用,重复性好;真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。整套系统可在1200℃

以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。

二、设备组成

HTF-1100蒸发器,HTF-1200D双温区管式炉,(蒸发器与高温反应区采用分体式),

 三、主要技术参数


蒸发器

 

型号:HTF-1100

工作温度:室温-1000℃

**温度:1050℃

*快升温速率:30℃/min

推荐升温速率:10℃/min

控温方式:智能化30段可编程控制

工作电压:AC220 V

额定功率:1000W

控温精度:±1℃

加热元件:电阻丝

加热区长度(mm):150mm 

双温区硫化炉 

型号:HTF-1200D

技术参数:

额定功率(KW):3

额定电压(V):AC220v  50/60 Hz

**温度(℃):1200(1 hour)

持续工作温度(℃):1100

升温速率(℃/min):≤50

炉管尺寸(mm):

高纯石英管Φ50×1500mm

加热区长度(mm):150/300mm

恒温区长度(mm):100/120mm  

控温方式:模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能

控温精度(℃):±1

加热元件:电阻丝

配件

配真空粉尘过滤器,DN25手动蝶阀用于控制炉管内压力,防腐型数显真空计,三路混气系统(可选)


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