技术参数：

技术指标：

坩埚大小:1cc；2cc，（其它体积定制）

可实现的金属层厚度: > 500 nm per load at distance 250 mm

通常（**）沉积速度:1 nm/sec (10 nm/sec) at distance 250 mm

加热系统:带坩埚的陶瓷容器

选项：标准金属容器（可替换）

温度范围:300°C ~ 1700°C

电源要求:电压 < 10 V (typ. 9 V)；电流 < 200 A (typ. 110 A)；功率 up to 2 kW

冷却水:approx. 15 l /min

选项：

• 陶瓷容器；金属容器

• 可弯曲的金属管用于冷却系统，免工具操作

• 与有机物升华器的联合装配

主要特点：

微型金属升华器专为实验室研究或微小规模的制备而设计，可以装配高真空或超高真空系统，主要用于沉积制备金属层。

特殊设计的升华器核心构成为传导效率很高的陶瓷容器，同时包括一个嵌入的坩埚。两种材料均能够承受金属的溶解过程。坩埚的材料可以所所升华金属的不同而选择。