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LK3200A电化学工作站
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暂无
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天津
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仪器简介:

LK3200A型电化学工作站是在LK2000系列优点的基础上将电流范围扩大到2A,应用于电化学科研与教学、电池材料研制、电池充放、电催化、电沉积、腐蚀及防护研究、导电聚合物及导电膜研究、环境分析等领域的研究及阻抗测试。

技术参数:

电势控制范围:-10~+10V 

恒电流范围:-2A~2A 

槽压:-35V~+35V

电流检测下限:≤10pA  

电位增量:0.01 mV~50V

脉冲宽度:0.0001~10Sec  

方波频率:0.001~100KHz   

交流频率:1~10KHz  

二次谐波交流频率:1~1KHz     

采样间隔:0.0001~60000Sec  

平衡时间:0~60000Sec    

滤波参数:50Hz~1000KHz 

电势信号扫描范围:10.0V  

扫描速度:0.01mV/S~5000V/S

脉冲间隔:0.0001~60000Sec

脉冲振幅:0.001~0.5V     

方波幅度:0.001~0.5V  

交流幅度:0.001~0.4V     

电解时间:1~60000Sec     

电沉积时间:0~60000Sec    

低噪声程控放大1~64倍  

正弦波频率:0.01mHz~100KHz

电流测量范围:±10mA~±1nA (8个量程档位)      

电流电位自动或手动滤波,自动或手动IR降补偿,自动电位或手动电流调零

主机自带硬件交流阻抗体系,附带交流阻抗软件,及数据处理软件件,可进行测量及数据曲

线的模拟该体系提供多个阻抗测量方法。

接口通讯方式:串行通讯

恒电位技术:单电位阶跃计时电流法、双电位阶跃计时电流法、计时电量法、电流—时间曲线、开路电位--时间曲线、控制电位电解库仑法、电位溶出E-T曲线、微分电位溶出分析法。

线性扫描技术:循环伏安法及无限次循环伏安、塔菲尔曲线、线性扫描溶出伏安法。

脉冲技术:差分脉冲溶出伏安法。

方波技术:循环方波伏安法、方波溶出伏安法。

交流技术:交流伏安法、选相交流伏安法、二次谐波交流伏安法、交流溶出伏安法

恒电流技术:单电流阶跃计时电位法、双电流阶跃计时电位法、线性电流计时电位法。

电化学检测方法:电位分析-工作曲线法、电位分析-标准加入法、恒电位安培检测、方波电位安培检测。

交流阻抗测量技术:交流-阻抗法、阻抗-电位法、阻抗-时间法。

电池充放电测试

主要特点:

32位Windows中文界面

测试系统软件采用32位Windows风格的软件界面,操作简单直观。实时观察窗口、图形数据一体化窗口的运用,使得测试过程直观高效。软件在运行中,对用户的操作及数据的有效性、完整性进行了充分地检查,适时给出提示或警告。

数据实时显示

LK3200A具有数据列表功能,能够实时显示阻抗的测量结果和打开文件的数据,确保你方便地查看实验结果。

强大的数据及图形处理

LK3200A交流阻抗测量系统上位机软件可直接处理80000个数据点,并能以十余种图形方式显示测量结果(如阻抗复平面图/Nyquist、Bode图、Warburg阻抗图),观察实验结果十分方便。

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