总部位于德国柏林科技园区的SENTECH仪器公司，已成为光伏生产设备世界市场之 一.我们是一家快速发展的中型公司，拥有60多名员工，他们是我们有价值的资产我们団 队的每个成员都为公司的成功做出贡献，我们总是在寻找与我们志同道合的新工作伙伴，我 们诚挚期待您的加入。

等离子刻蚀设备

ICP-RIE等离子刻蚀机SI500

产品介绍

高端等离子刻蚀设备SI 500使用低离子； 能量的电感耦合等离子体用于低损伤刻: 蚀和纳米结构刻蚀。

通过在广泛的温度: 范围内的动态温度控制确保了可重复且稳定的等离子刻蚀条件。深反应等离子；

刻蚀（硅，III-V族半导体，MEMS）可: 采用低温工艺和室温下的气体切换工艺: 来实现。

特点

*低损伤刻蚀 ?高速刻蚀

*自主研发的ICP等离子源

*动态温度控制

RIE等离子刻蚀机Etchlab 200

产品介绍：

经济型等离子刻蚀设备EtchLab 200具备 低成本效益高的特点，并且支持揭盖直接 放置样片。

EtchLab 200允许通过载片 器，实现多片工艺样品的快速装载，也可 以直接快速地把样品装载

在电极上。RIE等离子体刻蚀设备具备占地面积小， 模块化和灵活性等设计特点.

特点

*低成本效益高

*升级扩展性

*SENTECH控制软件

RIE等离子刻蚀机SI 591

产品介绍

SI 591特别适用于采用氟基和氣基 :气体的工艺，可以通过预真空室和电 :脑控制的等离子

工艺系统实现。SI 591的特点是占地空间小，高度灵活性，

例如，SI 591可作为单一反应腔系统集成在多腔系统中。

特点

工艺灵活性

*占地面积小且模块化程度高

*SENTECH控制软件