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微波等离子化学气相沉积系统,VKTR,WBDQC-4
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产品简介

微波材料学工作站--微波等离子化学气相沉积系统

主要用途:

该系统既可用作传统的化学气相沉积设备,又可用作微波能化学气相沉积设备,同时又是微波等离子化学气相沉积设备

主要为应用在半导体大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料,石墨烯、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域

该款具有高电离、高电子温度和电子密度、适用压强范围宽、无内部电极污染等优异性能,微波等离子体在材料表面处理、金刚石薄膜制备、化学气相沉积、刻蚀以及甲烷转化制氢、长余辉发光材料、陶瓷烧结、碳纳米管修饰[3]、纳米粉体合成、处理水污染等领域

产品特点:

垂直反应器的设计可使等离子高密度;对称的微波发生器装置,使产生的等离子环境更均匀

谐振腔内没有内部电极,可以避免电极放电所产生的污染,而且,它的运行气压范围比较宽,所产生等离子体密度高、区域大,稳定性高,且不与真空器接触,从而避免了器壁对薄膜的污染

操作便捷:气路连接方式采用了KF快速连接法兰结构,使取放物料过程简化,只需一支卡箍便可完成气路连接,方便操作,取消了复杂的法兰安装过程,减少了安装造成的损坏

多功能:4种加热方式可选可变:微波等离子、纯微波、传统电加热、混合加热;适应包括金属与合金在内非易燃的任何样品的热处理

双温区结构:上部等离子区或加热区下部样品台加热区

**开发的微波场专用传感器,精准控温

安全:**采用防止泄漏的联锁保护屏蔽措施安全可靠的微波屏蔽腔体设计,多重防泄漏保护

*标配装有专业微波抑制器

*内置微波泄漏传感器

节能:使用寿命长:磁控管微波加热,避免和解决了传统的加热丝、硅碳棒、硅钼棒等加热元件容易损坏的问题,也避免了因加热元件损坏而造成的时间、实验进度、维修费用等各种损失

采用无级可调、高稳定度长寿命、连续波微波源,确保设备能够连续稳定长时间运行

嵌入式微机一体化温度控制系统实现稳定性控温

无须烘炉过程:炉腔整体自身发热,加热均匀

微波能量即开即有无热惯性易于控制温度

配有万向轮调节底脚,方便移动和固定

技术参数:

型号/model

WBDQC-4

可加热材料

非易燃易爆的任何材料

微波频率

2.45GHZ±50MHz

加热方式

等离子加热、纯微波加热、传统电加热、混合加热

**功率/ KW(连续、可调)

4

样品腔长度

标配100mm可根据用户需求订制

加热样品腔(材质)

石英管(微波等离子工作模式)

石英管&刚玉管(其它加热方式)

控温范围/

1100℃石英样品腔直径:Φ45mm、Φ60mm、Φ100 mm 可选;

1500℃刚玉样品腔直径:Φ45mm、Φ60mm 可选;

温度测试元件

微波场专用传感器

温度分辨率/

0.1

样品台**温度范围

室温-1200℃、更高温度可选配

控温精度/

1200℃以下±11200℃以上±2

温度偏差/

温度稳定波动度/

冷却方式

风冷

恒温区长度/mm

标配100mm可根据用户需求订制

升温速率(标配)

0200/min(微波等离子工作模式除外)

任意设定,可编程、分段加热

温度控制方式

10段可设工艺参数,7寸触摸屏操作,带数据存储功能;提供手动、自动、恒温控制模式,曲线实时显示

控制气体

控制气体:H2CH4ArN 2 、其它气体可选

流量控制

标配 2 套质量流量控制器:七星华创(真空保护阀门后置,匹配真空模式);精度:0.8%

**耐压

1MPa;控制响应时间:10ms

真空系统真空泵

RVP2008;压力范围:10 -3 Torr~760 Torr

**抽速:8.5m 3 /h

真空计

数显真空计:1atm-10 -1 Pa

标配

质量流量自动控制系统配备控制计算机及控制软件,可以内置实时显示和保存生长参数

气路其他配置

气柜、气路及阀门等

端口

不锈钢 KF50 法兰接口

电源电压(V

220

微波泄漏量/ mW/2

0.4

外型尺寸(长高)/mm

1100×750×1900

选配功能:

质量流量控制系统;美国Alicat质量流量&控制器

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