管式炉设计用于材料沉积之用，广泛适用高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米

氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理。

产品特点：

LGO加热元件提供了高效的热传导作用，保证炉内温度的均 匀性和快速升降温。

耐用节能型加热元件，无需维护。

独特的炉腔设计可以有效降低炉外表面温度。

热反射元件形成高效中空保温层。

紧凑型炉体外表面涂有耐热涂层。

翻转式结构易于安装工作管。

耐用型PlatinelRII热电偶带有10英尺长的导线和插头。

工作管直径：25.4-76.2mm（不同型号不同）。

加热长度：609.6mm（不同型号不同）。

数字型多段单程序三区温度控制器：三区或单区可设定单个程序；微处理控制为基础、带自

我调节功能的PID控制器保证温度处理，防止过热；LED显示屏同时显示设定和实际温度；温控精确度：±0.3%。

温度范围：100-1200℃。

可选备供气系统，可以同时通入H2、N2、NH3、CH4和C2H2五种气体，五路气均带有316气体调压器(选件)。

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