德国Hitec Zang高压反应器系统HiClave

HiClave™高压工艺反应装置适合于高压工艺反应，特别是多相高压反应的系统。

它们可以作为单一的或者平行的反应系统进行操作。

HiClave™高压反应系统提供10-250 ml的反应体积；

**耐受压力300 bar，**温度达300℃；

由于纯金属压力帽密封，使系统达到密封状态，可以精确地测量气体的消耗；

*多可以有7个介质可以连接；

不同的加热制冷系统；

磁力搅拌器或磁封的顶置式机械搅拌机；

不同形式的气体/液体的供应系统；

除了标准配置以外，您可以按照自己需求订制系统

HiTec Zang高压工艺反应装置适合以下应用

?氢化反应 ?氧化反应 ?碳化反应 ?聚合反应

10 ml and 20 ml 反应器

10ml和20ml反应器有一个带有螺帽的釜盖和一个十字连接。

十字的上部一般由内部温度控制器占用，两个侧臂一般连接介质和压力表。

反应器可用加热磁力搅拌器加热，用搅拌子搅拌。

50 ml 反应器

用加热套筒加热，并从顶部搅拌。

可以使用冷却板进行冷却。

可使用加热磁力搅拌器进行加热和搅拌。

由一个带有螺帽的釜盖和3个连接头组成。

可以用于安装磁力耦合的搅拌器、温度控制器和连接介质。

100-250 ml 反应器

带七个连接出口的法兰盖，其中三个在釜盖的外侧，方便操作。

中央出口由磁力耦合的搅拌电机使用。

反应器用SS 1.4571不锈钢（SS 316 Ti）或哈氏合金C4制造。

使用加热套筒加热，可以通过冷却板或内部冷却回路冷却。

利用顶置式搅拌器搅拌，**扭矩20或50 NCM。

Hydration 模块

Vl-hiclave-hydr模块自动执行包括惰性气体清洗和反应器泄漏测试在内的整个程序。

将惰性气体通入反应器，达到一个**可调的压力水平进行充气。

清洗周期可根据需要重复操作，*后用惰性气体进行压力测试。

测试时间和通过测试的尺度可自由选择。

只有通过测试，反应气体才被释放，用于清洗，达到设定压力后，程序启动。

内置的气体消耗测量单元可以记录动力学数据，气体消耗速度也可以用作中止反应的标准

监测数据被自动记录和呈现在报告中，气体消耗曲线的动力学分析和测量过程同时完成。

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