设备的应用及特点：

本设备采用水平流片的方式，无插拔，无划伤，适合210mm大硅片生产，能帮助客户提高电池良率。

拉普拉斯等离子体增强原子层沉积水平镀膜自动上下料系统为在线式全自动上下料设备，具备AGV对接和MES等选配功能。