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NJ-QP990型全谱直读光谱仪采用标准的设计和制造工艺技术，应用了日本滨松公司先进的CMOS信号采集元件，每块CMOS都可以单独设值火花个数，与好的光谱仪技术同步，采用真空光室设计及全数字激发光源。这款CMOS光谱仪，既包含了CCD光谱仪的全谱特性，又具备PMT光谱仪对非金属元素的极低检出限，整机设计合理，操作简单易学，具有数据精准，长期稳定性好等优点。
1.主要技术参数
高性能光学系统 | 光学系统激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光学室，实现光路直通，有效的降低光路损耗； |
采用高精度的CMOS元件可精确测定非金属元素以及各种金属元素含量； | |
测定结果精准，重复性期稳定性好。 | |
自动光路校准 | 自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作； |
仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定。 | |
插拔式透镜设计 | 真空光学系统采用特别的入射窗与真空隔离，可在真空系统工作状态下进行操作，光学透镜采用插拔式透镜结构，日常清洗维护方便快捷。 |
真空室一体化 | 特别的光室结构设计，使真空室容积更小，抽真空时间仅普通光谱仪的1/2； |
真空室一体化设计及高精密的加工，使真空保持的更加持久。 | |
真空防返油技术 | 多级隔离的真空防返油技术，采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空完全隔离 |
中间增加了真空滤油装置，确保真空泵中油不进入真空室，保障CMOS检测器及光学元件在可靠环境中工作。 | |
开放式激发台 | 开放式激发台机灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析； |
配合使用小样品夹具，线材分析可达到3mm。 | |
喷射电极技术 | 用的喷射电极技术，使用钨材料电极，在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度 |
配上特别的氩气气路设计，大大降低了氩气使用量，也降低客户使用成本。 | |
集成气路模块 | 气路系统采用气路模块免维护设计，替代电磁阀和流量计，电极自吹扫功能，为激发创造了良好的环境。 |
数字化激发光源 | 数字激发光源，采用较好的等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品； |
全数字激发脉冲，确保激发样品等离子体超高分辨率和高稳定率输出； | |
可任意调节光源的各项参数，满足各种不同材料的激发要求。 | |
高速数据采集 | 仪器采用高性能CMOS检测元件，具有每块CMOS单独超高速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态。 |
以太数据传输 | 计算机和光谱仪之间使用以太网卡和TCP/IP协议，避免电磁干扰，光纤老化的弊端，同时计算机和打印机完全外置，方便升级和更换； |
可以远程监控仪器状态，多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数。 | |
预制工作曲线 | 备有不同材质和牌号的标样库，仪器出厂时工厂预制工作曲线，方便安装调试和及时投入生产； |
根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异，激发和测试参数仪器出厂时已经调节好，根据分析程序可自动选择合适的测试条件； | |
技术规格中附有分析范围（并可根据用户提供标样免费绘制或延长工作曲线）。 | |
分析速度快 | 分析速度快，仅需20秒即可完成一次分析； |
针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及测量时间，使仪器用短时间达到好的分析效果。 | |
多基体分析 | 光路设计采用罗兰圆结构，检测器上下交替排列，保证接收全部的谱线，不增加硬件设施，即可实现多基体分析； |
便于根据生产的需要增加基体及材料种类和分析元素（无硬件成本）。 | |
软件中英文系统 | 仪器操作软件完全兼容于Windows7/8/10系统； |
软件操作简单，即使没有任何光谱仪知识及操作经验的人员只需经过简单的知识培训即可上手使用。 |
1. 供货清单
特别声明：买方知悉并同意，由于技术进步、产品升级、市场变化等原因引起的上述仪器部件、备件等生产及供货厂商变动时，卖方可以调整供货。
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三、技术配置
1. 规格和技术参数
项目 | 指标 |
检测基体 | Fe、Al、Cu三种基体合金的成分测量 |
检测时间 | 试样品类型而定，一般20s左右 |
光学系统 | 帕型－龙格 |
波长范围 | 120～800nm |
工作电源 | （220±20）V AC，（50±1）Hz，保护性接地的单相电源 |
工作温度 | (10～30)℃ |
存储温度 | (0～45)℃ |
工作湿度 | 20％～80％ |
氩气纯度要求 | 99.999% |
氩气进口压力 | 0.5MPa |
氩气流量 | 激发流量约3.5L/min，维持流量约0.4L/min，待机流量约0.1L/min， |
尺寸 | 长760mm，宽610mm，高1130mm |
重量 | 约168kg |
激发**功率 | 400VA |
待机平均功率 | 100VA |
光源类型 | 脉冲合成全数字光源（可编程脉冲全数字光源） |
放电频率 | 高1000 Hz |
放电电流 | 大400A |
引燃点火脉冲 | 1～14kV |
火花激发脉冲 | 20～230V |
电弧激发脉冲 | 20～60V |
激发台孔径 | 13mm |
2. 光学系统
l 帕型-龙格结构的全谱光学系统
l 波长范围（120～800）nm
l 多个高性能CMOS探测器
l 耐环境温度变化
l 一体化光室设计，CMOS探测器保证短波达到较好的性能
l 光室恒温控制，恒温温度为35℃
3. 样品激发台
l 激发室的特殊设计，使样品室/激发室的清理工作更加便利；
l 优化的氩气气路设计保证激发台的有效冷却和激发过程中产生的金属粉尘有效进入过滤器；使样品激发更加稳定，并大大减少了人体对金属粉尘的摄入，有利于保护操作人员的健康安全；
l 更小的激发空间，使氩气消耗更小；
l 便于使用的样品夹具
l 具有电极自吹扫功能，使电极使用寿命更长、清洁电极更加容易
l 13 mm的激发孔径更利于样品分析
l 开放式样品激发台可适应各种大小、更多形状样品的分析；
l 透镜部分的结构设计，使透镜拆装、擦拭更方便，氩气的冲洗设计更可以延长透镜清洗周期。
4. 数字光源
l 脉冲合成全数字光源（可编程脉冲全数字光源），频率可达1000Hz；
l 高能预然技术（HEPS）；
l 优化设计的控制和功率电路，完善的激发安全保护功能
l 为不同分析目标提供好的火花、电弧或组合激发波形
l 频率：（100～1000）Hz
l 放电电流：大400 A
5. 数据采集系统
l 高性能DSP处理器，具有超高速数据采集及控制功能
l 单火花采集及光谱延时采集，实现更优化元素含量测量
l 外置式计算机（用户自选）
l 高速以太网数据传输
6. 分析软件
l 基于Windows操作系统的图形化分析软件，方便实用；
l 完备的自动系统诊断功能
l 完善的数据库管理功能，可方便查询、汇总数据
l 智能校正算法，保证仪器稳定可靠
l 完备的谱线信息和干扰扣除算法，保证仪器分析更为精准
l 新的Windows操作系统
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