石英坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路的基础材料。当今，世界半导体工业发达已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚。