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产品详情
微波等离子化学气相沉积(MPCVD)系统 —— C型
微波等离子化学气相沉积(MPCVD)系统   —— C型的图片
参考报价:
面议
品牌:
华宇东升
关注度:
161
样本:
暂无
型号:
微波等离子化学气相沉积(MPCVD)系统 —— C型
产地:
四川
信息完整度:
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暂无
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产品简介

微波等离子化学气相沉积(MPCVD)系统 

—— C

    一款先进的碟形腔体微波等离子体化学气相沉积设备,可应用于单晶金刚石和多晶金刚石薄膜、类金刚石薄膜的化学气相沉积以及材料表面处理、改性及掺杂等相关研究工作。

       微波输入采用下馈的方式,为腔体结构的优化提供了更大的空间。

 该设备可以在相对大面积的衬底上进行单晶和多晶金刚石生长,具备平面和非平面金刚石(HDC)的生长能力。其中,单晶金刚石沉积厚度上限不低于6mm,多晶金刚石沉积厚度上限不低于500μm。


性能特点:

֍采用高效散热的样品台

֍产品沉积速率快、沉积质量高

֍稳定的微波输入

֍**功率达到10kW

֍能先进,安全、可靠性强、重现性好

֍多参数实时监测、多重联锁保护与报警

֍为用户提供沉积工艺解决方案


主要技术参数:


微波源

6kW10kW可选,2.45GHz

反应腔碟形反应腔,可承载微波功率>10kW

反应腔打开方式

揭盖式或升降式,可选
微波馈入方式腔体下方
微波泄露<1mW/cm2
极限真空度<5×10-4Pa
真空漏率<5×10-10 Pa·L/s
气体质量流量控制标配5路,可定制
工作气压0.8kPa - 40kPa
基板台类型水冷式基板台
标准衬底托65mm、75mm、85mm直径圆台面积稳定沉积
样品台升降功能有,可选
样品台旋转功能

有,可选;

  • 旋转模式:连续转动、间隙转动

  • 旋转角度:360°

  • 旋转速度:0~20转/分,可调节

非平面(球面)金刚石样品台可选
操作系统PLC控制系统
单次连续工作时间>300h


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