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等离子体增强化学气相沉积系统CVD

等离子体增强化学气相沉积系统CVD
  • 品牌:安徽泽攸
  • 产地:安徽
  • 关注度:31
  • 型号:等离子体增强化学气相沉积系统CVD
  • 报价:面议
  • 信息完整度:
核心参数
    产品介绍

      多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统(CVD)是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术,主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离,促进化学反应在较低的温度下进行,从而在基片上沉积出所期望的薄膜。

      目前项目团队自主研发的CVD设备可在多种衬底上(如金属、氧化物、半导体表面)直接生长以石墨烯为代表的各类新型二维材料,用于新材料、新器件的研发。工艺简单廉价,且具有传统半导体生长工艺的兼容性。

      等离子体增强化学气相沉积系统CVD等离子体增强化学气相沉积系统技术参数

      应用案例

        CVD应用——Graphene在任意衬底上的无催化生长

        CVD应用——外延Graphene/BN异质结与摩尔超晶格

        CVD应用——Graphene的各向异性刻蚀技术发展

        CVD应用——Graphene的各向异性刻蚀技术发展2

        CVD应用——MoS2的原位氧取代掺杂和相变调控

        CVD应用——MoS2的原位氧取代掺杂和相变调控2

        CVD应用——外延构筑各种MoS2范德华异质结

        CVD应用——二/四英寸连续单层MoS2 的取向外延生长

        CVD应用——二/四英寸连续单层MoS2 的取向外延生长2


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      安徽泽攸科技有限公司

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      泽攸科技成立于2016年,拥有安徽铜陵、北京、上海和东莞四家分公司,是一家具有完全自主知识产权的精密仪器高科技公司。公司专注于扫描电镜、原位测量系统、台阶仪、探针台、电子束光刻机等精密设备的研究,填补了国家在科学精密仪器领域的诸多空白。人才是企业的核心竞争力和发展的驱动力。泽攸科技于20世纪90年代便开启电子显微镜及相关原位附件的研发,已逐步打造成为科学精密仪器领域人才聚集地。现有员工100多人,其中院士、专家团队20余人,拥有精通机械、光学、超高真空、电子技术、微纳

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