参考价格
10-20万元型号
ERS2000品牌
IKN产地
德国样本
暂无调速范围:
0-14000分散轮直径(mm):
75全容积(m³):
450*350*750能耗:
2.20-110处理量:
300-40000物料类型:
其它工作原理:
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锂电新工艺浆料混合分散剂,纳米级超细粉体解团聚研磨分散机,管道高剪切分散剂,碳纳米管立式研磨分散剂,石墨烯分散剥离研磨分散机,
高效率改进型纳米粉体分散机工作原理:物料磨细后,瞬间又通过分散工作组,进行分散,在物料还未抱团之前,就进行了分散,一个瞬间作用,效果会好很多。
在传统的生产工艺当中,混合分散设备大多采用双行星搅拌机,然而双行星搅拌机会带来两个问题
①纳米级超细粉体在制浆过程中极易形成团聚体,而双行星搅拌机无法将其分散。
②难以忍受的制浆时间(制浆时间过长,约6-8小时,甚至十几个小时)
应对这个棘手的问题,人们不断的研究,zui终选择采用高剪切分散机理来对电极活性物进行分散,并形成了以下的解决方案:
将传统双行星混合设备作为宏观分散单元完成粉-液浆料的宏观分散,而高剪切分散设备作为微观分散单元,可以快速完成微观上的超细分散,显zhu提高了分散效率,将每批浆料8-10小时左右的工作周期缩短为4-5小时,提高了生产效率,大大减少了设备投入,并节约了成本。
上海依肯zhuan业生产研发高剪切分散设备,依肯的高剪切分散设备转速可高达14000rpm,分散效果*。在锂电行业有着充分的应用,如“碳纳米管的分散”“石墨烯的分散”,依肯公司都有着十足的经验和技术。
纳米级超细粉体解团聚研磨分散机由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,同时,可将电机能量更有效地转化为尺寸减小力,从而在粉末研磨和精细化学粉碎方面ling先于其他同行业设备。被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
纳米级超细粉体解团聚研磨分散机是上海依肯机械设备公司和德国IKN工程师合作研发的一款高科技产品,由胶体磨、分散机组合而成;是国内较早一款将研磨和分散两种功能结合的流体设备。
1.线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力非常强烈,通常所说的超细湿磨
2.定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。
3.定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4.在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5.高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
德国IKN
zui新的设计融合了许多创新,提供更多应用多功能性,更易于清洁和维护。
砂磨机:锆珠易损,引入杂质,更换维修成本高;
国内胶体磨/研磨机/分散机:转速普遍2930rpm,不超过3000rpm,作用力弱,粉碎研磨细度不够,浆料稳定性差;
德国IKN研磨分散机(改进型胶体磨/改进型分散机):转速范围9000rpm-14000rpm-21000rpm,剪切力,研磨力,分散力更强,粒径更小,分布范围更窄,浆料稳定性更好。产生均匀的尺寸减小率并产生窄的,一致的和可重复的粒度分布。
CMSD 2000系列纳米粉体解团聚研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
纳米级超细粉体解团聚研磨分散机,锂电新工艺浆料混合分散剂,管道高剪切分散剂,碳纳米管立式研磨分散剂,石墨烯分散剥离研磨分散机,高效率改进型纳米粉体分散机
高效率改进型纳米粉体分散机工作原理:物料磨细后,瞬间又通过分散工作组,进行分散,在物料还未抱团之前,就进行了分散,一个瞬间作用,效果会好很多。
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