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热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200品牌
北京泰科诺产地
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设备名称：热丝 CVD 金刚石膜沉积设备
设备型号：HF1200
真空腔室结构：立式前开门结构，后置抽气系统，双层水冷
真空腔室尺寸：Φ1200mmxH1200mm
真空系统：高真空泵组系统
基片台尺寸：Φ500mm²×600mm² 方形基片台（旋转、升降可选）
衬底温度：600 ～ 1100℃
电源：专用热丝电源 2200A, 恒流或恒功率模式
气路控制：4 路气体流量控制
控制方式：PC+PLC+ 触摸屏控制
占地面积：主机 L5000mm×W3000mm×H4000mm
总功率：≥ 300kW
设备名称：热丝 CVD 金刚石膜沉积设备
设备型号：HF1200
真空腔室结构：立式前开门结构，后置抽气系统，双层水冷
真空腔室尺寸：Φ1200mmxH1200mm
真空系统：高真空泵组系统
基片台尺寸：Φ500mm²×600mm² 方形基片台（旋转、升降可选）
衬底温度：600 ～ 1100℃
电源：专用热丝电源 2200A, 恒流或恒功率模式
气路控制：4 路气体流量控制
控制方式：PC+PLC+ 触摸屏控制
占地面积：主机 L5000mm×W3000mm×H4000mm
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