中国粉体网讯 经过将近30年的发展,作为功能薄膜制备中的一项关键技术,原子层沉积(ALD)技术在催化、半导体、光学等众多领域都发挥着十分重要的作用。ALD最初用于平板显示器所需的多晶荧光材料ZnS、Mn以及非晶Al2O3绝缘[更多]
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