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推荐原子层沉积技术在金属粉体领域的应用

中国粉体网讯 原子层沉积（Atomic Layer deposition, ALD）技术是化学气相沉积法（CVD）的一种，最初是由芬兰科学家提出并用于多晶荧光材料ZnS、Mn以及非晶 Al2O3绝缘膜的研制，这些材料用于平板[更多]