斯普瑞喷雾冷却系统

推荐破局28纳米清洗困局,斯普瑞喷雾以硬核科技重塑半导体制造标杆

斯普瑞喷雾NanoCleaning破局28纳米清洗困局半导体制造的“纳米级洁癖”清洗技术成制程升级胜负手当半导体制造迈入28纳米及以下制程,晶圆表面残留的0.1微米级微粒足。以引发芯片功能失效,其严苛程度堪比“在足球场上清除[更多]

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