徐永宽

推荐碳化硅单晶生长:迈向大尺寸、高质量的征途

中国粉体网讯 目前,用于SiC晶体生长的主要技术包括物理气相输运(PVT)法、高温化学气相沉积( HTCVD)法,以及顶部籽晶溶液生长(TSSG)法。其中,PVT法作为现阶段发展最为成熟、应用最广且商业化程度最高的SiC单晶[更多]

资讯 碳化硅衬底第三代半导体碳化硅单晶半导体材料徐永宽
|
中国粉体网
5090 点击5090
+ 加载更多