中国粉体网讯 目前,用于SiC晶体生长的主要技术包括物理气相输运(PVT)法、高温化学气相沉积( HTCVD)法,以及顶部籽晶溶液生长(TSSG)法。其中,PVT法作为现阶段发展最为成熟、应用最广且商业化程度最高的SiC单晶[更多]
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