一 仪器概述

实时跟踪分子变化.

我们的QCM-D系统是建立在一个行之有效的技术之上，它具备许多科学依据.其技术基础是在 接通恒频电源的情况下，通过石英晶体振荡频率来进行测试，由于石英晶体上的质量变化而导致 振荡频率也变化.在测试过程中，其质量微小的变化可通过纳克灵敏度来测量.

独特的Q-Sense设备分散测量法可提供有关薄片结构及粘弹性特性的信息.它还能提供反应前 后诸如吸附膜的分子结构，厚度和含水量以及对基板表面的独特见解等相关信息。耗散因子的 测量是通过断开电源后石英振荡频率渐渐减慢过程中得出的。

QCM-D可测量任何能被加工成薄膜状的表面，比如聚合体，金属或化学生成的表面。此系统 还能实时进行分析且每秒可提供高达200个数据点。

二 仪器特点

l实时追踪表面

通过可达到纳克级别的灵敏度来测量物体质量变化，结构特征 及粘弹性特性.可辨别两个相似的物体或观测约束层中的相位 变化和结构变形.

l实时分析

Q-Sense系统每秒可高达200个数据点可使您一步一步有序 地完成分子间相互作用力的测试.

l灵活选择测试面

可测试多种物质表面及涂料层包括金属，金属氧化物，聚合 物，油脂和反应表面

l系统

Q-sense提供 系统. E1系统包括指导，软件，电脑和安装. Q-sense还会提供培训和技术支持.

l单个传感器系统

紧凑，易于使用，免标定的单个传感器式设计使得此系统在 进行测量时可靠，稳定并有优良的重复性.

l可供选择模块

附件模块，可选择电化学和窗口模块等，