仪器简介：

* 应用领域

- 常规的光致发光测量；

- III-V族 化合物半导体材料掺杂水平分析、合成组分分析、带隙分析等

- LD， LED研发，生产中品质分析，控制

-荧光检测

-EPI-Wafer auto PL Mapping

-钻石，珠宝鉴定，内含物分析等。

扩展使用:

-PLE(PL 激发）

-TRPL（time-resolved PL)

-TDPL(temperature dependent PL)

-Micro-PL

-Confocal PL

-nano PL by using Nsom(near -field scanning optical microscope

主要特点：

仪器特点 ：

• 高品质及中等价位的PL扫描系统(可选配自动样品扫描装置，实现ｍａｐｐｉｎｇ功能)；

• 波长范围宽广(UV-VIS-NIR，)；

• 设备坚固，安全，更多于竞争公司产品的特点（如快速mapping检测）

• 噪声低，高PL信号探测；

•　可选配多种激发源（多种波长激光源）

• 设计紧凑，易于调谐；

• 各种激发激光源可选；

• 光谱分析软件可获得光谱带宽，峰值波长，峰值副瓣鉴别、光谱数据运算。。。。

•　可实现同时对膜厚及反射率的检测

•　双PL峰分离功能

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本系统主要的特点：

1。除激光外，同时可使用分光计和样品chamber组合而成。

2。利用He-Cd laser，laser power meter对可调节光强的ND filter和laser光强进行监控

3。分光计部分追加了一个port，不仅可以通过CCD探测器进行测定，也可通过PMT/IR Detector进行测定。

4。为了去除来自分光计2nd order的光，利用laser line filter控制cut off filter和laser的plasma line。

根据客户的需要可与如下装置一起装配：

１。ＰＬ＋Micro Raman(显微拉曼系统）

２。ＰＬ＋Ｃｒｙｏｓｔａｔ（低温装置，４Ｋ，７７Ｋ。。）

３。ＰＬ＋ＰＬＥ

４。ＰＬ＋ＰＬＥ＋ＡＴＲ

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