首页 > 分析仪器设备 > 半导体行业专用仪器 >
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备

参考价格

面议

型号

PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备

品牌

鹏城微纳

产地

沈阳

样本

暂无
鹏城微纳技术(沈阳)有限公司

高级会员

|

第1年

|

生产商

工商已核实

留言询价
核心参数
产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家
留言询价
×

*留言类型

*留言内容

*联系人

*单位名称

*电子邮箱

*手机号

提交
点击提交代表您同意 《用户服务协议》《隐私协议》

虚拟号将在 180 秒后失效

使用微信扫码拨号

为了保证隐私安全,平台已启用虚拟电话,请放心拨打(暂不支持短信)
×
是否已沟通完成
您还可以选择留下联系电话,等待商家与您联系

需求描述

单位名称

联系人

联系电话

Email

已与商家取得联系
同意发送给商家
产品介绍
创新点
相关方案
相关资料
用户评论
公司动态
问商家

产品详情

PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长;采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术,是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。


设备用途和功能特点

1、该设备是高真空单频或双频等离子增强化学气相沉积PECVD薄膜设备,主要用于制备氮化硅和氧化硅薄膜。

2、设备保护功能强,具备真空系统检测与保护、水压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护。

3、配置尾气处理装置。


设备安全性设计

1、电力系统的检测与保护

2、设置真空检测与报警保护功能

3、温度检测与报警保护

4、冷却循环水系统的压力检测和流量检测与报警保护

设备技术指标

 类型参数 
 样片尺寸 ≤φ8英寸(或多片2英寸)
 样片加热台加热温度 室温~ 600℃±0.1℃
 真空室极限真空 ≤7×10-5Pa
 工作背景真空 ≤8×10-4Pa
 设备总体漏放率 停泵12小时后,真空度≤10Pa
 样品、电极间距 5mm ~ 50mm在线可调
 工作控制压强 10Pa ~ 1500Pa
 气体控制回路 根据工艺要求配置
 单频电源的频率 13.56MHz
 双频电源的频率 13.56MHz/400KHz


工作条件

 类型参数 
 供电 三相五线制 AC 380V
 工作环境温度 10℃~ 40℃
 气体阀门供气压力 0.5MPa ~ 0.7MPa
 质量流量控制器输入压力 0.05MPa ~ 0.2MPa
 冷却水循环量 0.6m3/h 水温18℃~ 25℃
 设备总功率 7kW
 设备占地面积 2.0m ~ 2.0m

单室与多室PECVD设备


创新点

暂无数据!

相关方案
暂无相关方案。
相关资料
暂无数据。
用户评论

产品质量

10分

售后服务

10分

易用性

10分

性价比

10分
评论内容
暂无评论!
公司动态
暂无数据!
技术文章
暂无数据!
问商家
  • PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备的工作原理介绍?
  • PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备的使用方法?
  • PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备多少钱一台?
  • PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备使用的注意事项
  • PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备的说明书有吗?
  • PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备的操作规程有吗?
  • PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备的报价含票含运费吗?
  • PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备有现货吗?
  • PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备包安装吗?
PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备信息由鹏城微纳技术(沈阳)有限公司为您提供,如您想了解更多关于PECVD 等离子体增强化学气相沉积设备报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
  • 推荐分类
  • 同类产品
  • 该厂商产品
  • 相关厂商
  • 推荐品牌
同品牌产品
化合物半导体
关注度 550
高真空磁控溅射仪
关注度 563
欢迎登录中国粉体网
关闭
用户名:
密码:
 
忘记密码?
使用第三方账号登录:
还没有账号?
个人注册企业注册
免费
咨询
手机站
二维码